[发明专利]一种模拟晶界迁移的实验方法在审
申请号: | 202111305541.1 | 申请日: | 2021-11-05 |
公开(公告)号: | CN114112892A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 刘榆;杨勇飞;周素洪;刘勇;瞿峰 | 申请(专利权)人: | 南通爱尔思轻合金精密成型有限公司 |
主分类号: | G01N19/00 | 分类号: | G01N19/00;G01N23/00 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
地址: | 226100 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模拟 迁移 实验 方法 | ||
1.一种模拟晶界迁移的实验方法,其特征在于:具体实验方法如下:
S1:选取单晶样品:单晶样品选择采用圆盘状高纯单晶样品,且纯度大于99.9999wt%;样品的直径为10-20mm,样品的厚度为0.5-2mm;并标记出每片单晶的特定晶向;
S2:单晶样品堆叠:将两片单晶样品层叠堆放,两片单晶样品所标记的特定晶向之间夹角为θ°,并将层叠的单晶样品放置入高压扭转设备的模具之中;
S3:单晶样品旋转:通过高压扭转的方式,在低应变速率下对堆叠单晶样品施加剪切变形;高压扭转的旋转角度小从到大分为多组,覆盖不同的塑性变形量,最大旋转角度小于360°;层叠单晶样品在剪应力作用下逐渐发生塑性变形,圆盘边缘部分从单晶状态演变为晶粒度为几十到几百微米的晶粒;
S4:样品的裁切:将样品从上层样品的标定晶向沿着直径切开,通过电子显微镜在圆盘的轴向截面边缘寻找越过上下层界面的晶界;此时迁移晶界周围为大体积样品下真实的多晶环境;以该状态下的晶界作为研究对象,收集它们的特征参数,为后续进一步的剪切耦合晶界迁移实验和模拟提供基础数据。
2.根据权利要求1所述的一种模拟晶界迁移的实验方法,其特征在于:所述S3中高压旋转工艺中采用的是平行于轴线方向施加压力,且压力大小为0.5-12GPa,绕着轴线进行旋转,且旋转速度为0.5 r/min。
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