[发明专利]一种降低石英表面粗糙度至亚纳米量级的方法

权利要求书

1.一种降低石英表面粗糙度至亚纳米量级的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，确定样品待加工表面的粗糙度参数；

步骤二，将样品放置于透明基板的顶面上，样品的顶面为待加工表面；透明基板与样品采用相同材料制成，并在透明基板的一端设置有倾斜的入光面，入光面与透明基板的顶面之间形成夹角，夹角大于等于样品的全内反射临界角；

步骤三，在样品的待加工表面涂覆含有氯分子的水溶液，并使水溶液的折射率小于样品的折射率；

步骤四，从透明基板外侧向样品的待加工表面发射相干单色线偏振辐射光，使相干单色线偏振辐射光从入光面垂直入射，并使相干单色线偏振辐射光的波长大于氯分子的吸收极限波长、且辐射功率密度大于氯分子的吸收极限功率密度；

步骤五，保持相干单色线偏振辐射光对样品的待加工表面照射预定时间，实现对待加工表面的抛光处理。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

步骤六，检测抛光后样品表面的粗糙度；

步骤七，当抛光后样品表面的粗糙度不满足要求时，则重复步骤三到步骤六。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，含有氯分子的水溶液为次氯酸钠水溶液或次氯酸钙水溶液。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，预定时间为10min～15min。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，透明基板为石英制成。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，相干单色线偏振辐射光的波长大于500nm。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，相干单色线偏振辐射光的波长为650nm。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，相干单色线偏振辐射光的辐射功率密度大于0.03W/cm²。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，相干单色线偏振辐射光的辐射功率密度为0.05W/cm²。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，相干单色线偏振辐射光为由激光器发射的激光。