[发明专利]一种异形布阵二维多基线相位干涉仪测角方法在审

专利信息
申请号: 202111308635.4 申请日: 2021-11-05
公开(公告)号: CN114063065A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 尹飞;曹书华;孙华普 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所
主分类号: G01S13/88 分类号: G01S13/88;G01S7/38
代理公司: 北京航信高科知识产权代理事务所(普通合伙) 11526 代理人: 高原
地址: 214063 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 异形 布阵 二维 基线 相位 干涉仪 方法
【说明书】:

本申请属于机载火控雷达领域,特别涉及一种异形布阵二维多基线相位干涉仪测角方法。包括:获取参与测角的阵元,并将各个阵元进行通道校准;基于雷达阵面确定三维坐标轴,其中,水平为X轴,垂直为Y轴,垂直雷达阵面为Z轴,根据Y轴上各个阵元之间的间距,利用多基线相位干涉仪逐次递推测角解模糊算法求解第一空间来波角度;将不在X轴上的阵元相位差转换到X轴上的映射阵元上,根据X轴上各个阵元以及映射阵元之间的间距,利用多基线相位干涉仪逐次递推测角解模糊算法求解第二空间来波角度;计算出来波的雷达系的方位角以及俯仰角;进行N次采样,循环进行步骤二至步骤四,计算出N组方位角以及俯仰角的平均值作为最终的来波方向。

技术领域

本申请属于机载火控雷达领域,特别涉及一种异形布阵二维多基线相位干涉仪测角方法。

背景技术

现代的战争具有高度信息化、超视距非接触化、战争设备综合一体化等多种特征。现在战争是高度信息化的,信息化就是敌我双方对抗的层次更多地集中在信息层面而不是武器杀伤力层面。雷达电子战系统把雷达以及其组成系统作为其作战目标,凭借雷达侦察机、雷达干扰机作为其重要的作战装备,以电磁波的发射、吸收、传输等形式来展开。雷达电子战系统从最初的分立式的单一功能发展到如今的多功能综合一体化系统,不断实现了系统的标准化、通用化、系列化等要求,在理论以及应用上都实现了高速的发展。多功能一体化的雷达电子战系统是为了把类别不相同、频段不相同和功能不相同的相关设备及技术有机地融合为一体化的综合系统,具备资源冗余、信息资源共享、可动态重组、高利用率等优点,能够极大提高联合作战的整体效能。

雷达和电子战系统的综合一体化成为了电子信息技术发展以及现代战争信息化需求的必然要求。雷达和电子战装备的一体化极大地节省了能源的消耗,占用空间减少,提高平台的作战效能和机动能力,使硬件设备利用率增加,改善干扰的效果,成为如今雷达电子战系统发展的必然趋势。怎样实现雷达信号和电子战信号的一体化处理,是系统能否有效工作的关键。特别是在复杂电磁环境中,为了在保证载机的隐身性能前提下,要想具有先敌发现,准确定位,快速打击的能力,需要雷达和电子战工作频繁切换、相互辅助配合,这样就有共用一个天线的需求。电子战常规的测角方式是多基线相位干涉仪测角,一般需要保证阵元分布在一条直线上,且阵元的排布间隔有一定的约束。在多基线相位干涉仪测角系统中,为了提高测角精度,希望增大基线的长度;而为了避免相位周期模糊,则要求基线的长度不超过电磁波波长的一半。为了解决这个矛盾,目前大都采用多基线干涉仪来进行测角,利用短基线解相位周期模糊,利用长基线获得高的测角精度。但是在确保有源相控阵雷达的正常使用(包括全阵、子阵等工作模式)的前提下,为了实现二维干涉测角,很难同时实现在阵面上设置两个轴向都在直线上且符合上述约束要求的布阵方法。

因此,希望有一种技术方案来克服或至少减轻现有技术的至少一个上述缺陷。

发明内容

本申请的目的是提供了一种异形布阵二维多基线相位干涉仪测角方法,以解决现有技术存在的至少一个问题。

本申请的技术方案是:

一种异形布阵二维多基线相位干涉仪测角方法,包括:

步骤一、获取参与测角的阵元,并将各个阵元进行通道校准;

步骤二、基于雷达阵面确定三维坐标轴,其中,水平为X轴,垂直为Y轴,垂直雷达阵面为Z轴,根据Y轴上各个阵元之间的间距,利用多基线相位干涉仪逐次递推测角解模糊算法求解第一空间来波角度;

步骤三、将不在X轴上的阵元相位差转换到X轴上的映射阵元上,根据X轴上各个阵元以及映射阵元之间的间距,利用多基线相位干涉仪逐次递推测角解模糊算法求解第二空间来波角度;

步骤四、根据所述第一空间来波角度以及所述第二空间来波角度,计算出来波的雷达系的方位角以及俯仰角;

步骤五、进行N次采样,循环进行步骤二至步骤四,计算出N组方位角以及俯仰角的平均值作为最终的来波方向。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所,未经中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111308635.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top