[发明专利]一种固定圈层局部抽注修复的方法在审

专利信息
申请号: 202111313729.0 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN114029324A 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 徐乐昌;周磊;白云龙;吴名涛;江国平 申请(专利权)人: 核工业北京化工冶金研究院
主分类号: B09C1/00 分类号: B09C1/00
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 101149 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 固定 局部 修复 方法
【说明书】:

发明提供了一种固定圈层局部抽注修复地下水修复方法,属于地下水处理技术领域。包括以下步骤:对地浸采铀采场的未达标抽液井进行抽液,同时对周围钻井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水,所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液,所述固定圈层井的排列顺序为局部范围外围注,中间抽。本发明针对局部有个别孔没有达到修复标准的问题,采用固定圈层局部抽注技术。以没有达标的钻孔为中心进行抽液,选取周围的钻孔进行注液,进行局部的抽注液作业。这样可以加强对局部地下水的修复效果,最终达到修复局部不达标钻孔的目的。

技术领域

本发明涉及地下水处理技术领域,尤其涉及一种固定圈层局部抽注修复的方法。

背景技术

经过几十年的发展,酸法地浸采铀试验取得了重大突破,经扩大试验、工业性试验,矿床成为了地浸采铀试验基地。但酸法地浸所带来的主要环境问题为矿区矿段局部地区地下水受到一定程度污染。

从2010年开始,酸法地浸试验全部停止,但为了防止地下水污染物的进一步扩散,一直维持对井场地下水进行抽取、处理。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种固定圈层局部抽注修复的方法。本发明能够加强对局部地下水的修效果,最终达到修复局部不达标钻孔的目的。

为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:

本发明提供了一种固定圈层局部抽注修复的方法,包括以下步骤:

对地浸采铀基地的外围钻井进行固定圈层井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水,同时对抽液井进行抽液,所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液,所述固定圈层井的排列顺序为局部范围,所述抽液井位于所述地浸采铀基地的中间,所述还原剂溶液包括硫化钠溶液。

优选地,所述硫化钠溶液的pH值为8.0~10.5。

优选地,所述硫化钠溶液的注入速率确保全部注入所需要修复的含水层中,且不导致从注液井溢出。

优选地,所述地浸采铀基地进行多圈井注入水前,还包括依次进行单抽清洗、采用抽污注清置换修复技术对地下水进行修复、抽注互换和用碱性还原原位修复。

优选地,所述采用抽污注清置换修复技术对地下水进行修复优选为对地浸采铀基地的抽液孔抽出地下水的同时,对地浸采铀基地的注液孔注入水。

优选地,所述碱性还原原位修复使用的还原剂为硫化钠。

优选地,所述硫化钠以硫化钠水溶液的形式加入,所述硫化钠水溶液的 pH值为8.0~10.5。

优选地,所述单抽清洗使用被污染地下水,所述被污染地下水来源于进行酸法地浸采铀工程污染的地下水。

本发明提供了一种固定圈层局部抽注修复的方法,包括以下步骤:对地浸采铀基地的外围钻井进行固定圈层井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水,同时对抽液井进行抽液,所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液,所述固定圈层井的排列顺序为局部范围,所述抽液井位于所述地浸采铀基地的中间,所述还原剂溶液包括硫化钠溶液。本发明对地浸采铀基地的未达到修复目标值的抽液井进行抽液,同时对周围钻井注入硫化钠溶液进行固定圈层局部抽注修复。

本发明针对局部有个别孔没到达到修复标准的问题,采用固定圈层局部抽注技术。以没有达标的钻孔为中心进行抽液,选取周围的钻孔进行注液,进行局部的抽注液作业。这样可以加强对局部地下水的修效果,最终达到修复局部不达标钻孔的目的。经过本发明的处理后,钻孔中污染物(U和Ra) 浓度显著下降。

附图说明

图1为实施例1中抽注液分布图(18号为抽液井,17号、19号、28为注液井);

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