[发明专利]一种天麻亮肤抗衰霜及其制备方法

权利要求书

1.一种天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，制备原料以重量份计包括：A相70-80份，B相10-20份，E相5-10份，所述A相制备原料包括水，B相制备原料包括甘油三(乙基己酸)酯，E相制备原料至少包括天麻提取物3-8份。

2.根据权利要求1所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述天麻提取物中天麻素的质量分数为0.001-0.08％。

3.根据权利要求1所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，制备原料还包括：C相0.1-1份，D相0.1-0.5份，所述C相为EG乳化剂，所述D相制备原料至少包括氢氧化钠溶液。

4.根据权利要求1所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述A相制备原料还包括EDTA-二钠，1,3-丙二醇，甘油，对羟基苯乙酮，小核菌胶，透明质酸钠，甜菜碱，卡波U20。

5.根据权利要求1所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述B相制备原料还包括乳化剂ML，氢化磷脂酰胆碱，鲸蜡醇乙基己酸酯，角鲨烷，橄榄油，生育酚乙酸酯，硅油DC345。

6.根据权利要求1所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述E相制备原料还包括β-葡聚糖组合物，保湿剂PHL，淡斑肽，兰花香精。

7.根据权利要求3所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述EG乳化剂，制备原料包括丙烯酸钠/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物，聚山梨醇酯-80，异十六烷。

8.根据权利要求3所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述氢氧化钠溶液的质量浓度为10-15％。

9.根据权利要求8所述天麻亮肤抗衰霜，其特征在于，所述天麻提取物与质量浓度为10％的氢氧化钠溶液的重量比为1：(0.01-0.1)。

10.一种根据权利要求4-9任一项所述天麻亮肤抗衰霜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将卡波U20，水和EDTA-二钠加入配置锅中，待卡波U20完全润湿后加热至80-85℃，在45-55Hz下混合搅拌20-30min；

(2)将1,3-丙二醇，小核菌胶，透明质酸钠加入配置锅中，25-35Hz下混合搅拌20-30min，再加入甘油，对羟基苯乙酮，甜菜碱继续混合搅拌20-30min；

(3)将B相原料加入油相锅中加热至80-85℃，先将C相加入配置锅中，然后再将B相加入配置锅中，55-60Hz均质搅拌，真空度-0.04mPa，均质5分钟，然后30-35Hz搅拌降温；

(4)降温至65-70℃，将D相加入配置锅中30-35Hz搅拌降温；

(5)降温至40-45℃，将E相加入配置锅中25-30Hz搅拌均匀，取料检测，合格后出料即得。