[发明专利]用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置及检测方法

权利要求书

1.一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，其包括，

暗室，

直线导轨装置，其水平放置于所述暗室内，

滑动台，其设置于直线导轨装置上以沿所述直线导轨装置直线滑动，

旋转支撑架，其包括支承于所述滑动台的第一端和相反于所述第一端的第二端，所述第二端相对于所述滑动台可旋转，

水平台，其支承于所述第二端以随着所述第二端可旋转，

固定装置，其设于所述水平台上以固定高压开关触头样品，

竖直调节支撑架，其可调节高度地支承于所述直线导轨装置，

拍摄单元，其高度可调节地设于所述竖直调节支撑架以平齐于所述样品拍摄图像数据，

至少一个光源，其布置于所述拍摄单元四周。

2.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，还包括连接拍摄单元的处理模块，所述处理模块包括基于所述图像数据提取灰度共生矩阵的灰度处理单元和基于所述灰度共生矩阵判断高压开关触头样品腐蚀的判断单元。

3.根据权利要求2所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述判断单元包括基于所述灰度共生矩阵提取特征值的提取单元和基于特征值识别高压开关触头样品腐蚀的对比单元。

4.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述竖直调节支撑架经由第二滑动台可滑动地设于所述直线导轨装置。

5.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述旋转支撑架高度为50cm，第一端与滑动台连接且保持相对静止，第二端固定水平台且使水平台360度旋转。

6.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述竖直调节支撑架为光学升降支架，高度调节的范围为40cm到80cm。

7.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述直线导轨装置为滚珠直线导轨，长度为100cm，宽度为10cm。

8.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述固定装置包括螺栓，其夹持范围为20cm。

9.根据权利要求1所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置，其特征在于，所述光源为LED灯。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的一种用于测量高压开关触头腐蚀的光学检测装置的检测方法，其包括以下步骤，

步骤S1，调节竖直调节支撑架的高度使得高压开关触头样品和拍摄单元处于同一水平高度；

步骤S2，调节滑动台和竖直调节支撑架沿导轨方向的距离以设置拍摄单元的光学参数；

步骤S3，多个角度转动旋转支撑架，拍摄单元基于多个角度拍摄高压开关触头样品的图像数据；

步骤S4，灰度处理图像数据，提取灰度共生矩阵；

步骤S5，计算所述灰度共生矩阵的特征值；

步骤S6，将高压开关触头样品的特征值对比无腐蚀触头的灰度共生矩阵特征值以判断高压开关触头样品的腐蚀。