[发明专利]废气处理系统

说明书

本发明提供涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种废气处理系统，包括反应装置和氮氧化物处理装置，氮氧化物处理装置包括第一反应腔和催化组件，催化组件设置于第一反应腔内，反应装置包括第二反应腔、降温腔和降温喷头，降温喷头设置于降温腔内，第二反应腔的出口与第一反应腔的进口通过降温腔连通。利用第二反应腔排出的高温气体，通过控制降温喷头的工作，可以控制气体在催化反应时所需要的温度，节约了催化反应需要再次升温的能量消耗。还可根据不同的催化剂，通过降温腔将带有氮氧化物的气体调整至不同的温度，满足不同催化剂进行催化反应时所需的温度。

技术领域

本发明涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种废气处理系统。

背景技术

在半导体制造、液晶面板制造、LED、太阳能等这些行业生产原物料中，含有多种易燃易爆、有毒有害等气体，对环境或人体皆具有一定的危害性，必须防止其直接排放大气中。所以必须依据各工艺所衍生出的气体特性种类，配置适合工艺气体特性的小型废气处理装置，才能有效解决废气问题。

在高温处理废气的过程中会产生过量的氮氧化物，氮氧化物与空气中的水结合最终会转化成硝酸和硝酸盐，随着降水和降尘从空气中去除。硝酸是酸雨的原因之一；它与其他污染物在一定条件下能产生光化学烟雾污染，所以必须对过程中产生的氮氧化物进行处理，避免污染环境。

目前主流处理氮氧化物的技术主要有选择性催化还原法(SCR)和选择性非催化还原法(SNCR)。选择性非催化还原法(SNCR)需要提供高温环境，并且处理效率低。采用选择性催化还原法(SCR)处理效率高，技术也成熟，需要选择合适的催化剂和保证稳定的催化反应温度。但现有的氮氧化物处理时处理装置常常只能维持某一特定温度，而且受到催化剂催化反应温度的限制，因此催化剂选择性单一，催化剂在处理装置中因反应生成的物质容易造成堵塞，影响气体流通和催化反应。

发明内容

本发明提供一种废气处理系统，用以解决相关技术中氮氧化物处理时处理装置只能维持某一特定温度，受到催化剂催化反应温度的限制，因此催化剂选择性单一的缺陷，实现根据不同的催化剂，通过降温腔将带有氮氧化物的气体调整至不同的温度，从而满足不同催化剂进行催化反应时所需的温度的效果。

本发明提供一种废气处理系统，包括反应装置和氮氧化物处理装置，所述氮氧化物处理装置包括第一反应腔和催化组件，所述催化组件设置于所述第一反应腔内，所述反应装置包括第二反应腔、降温腔和降温喷头，所述降温喷头设置于所述降温腔内，所述第二反应腔的出口与所述第一反应腔的进口通过所述降温腔连通。

根据本发明提供的一种废气处理系统，所述氢氧化物处理装置还包括吹喷组件，所述吹喷组件包括气体喷头，所述气体喷头设置于所述第一反应腔内，且所述气体喷头对准所述催化组件设置。

根据本发明提供的一种废气处理系统，所述催化组件包括多个催化剂部件，多个所述催化剂部件沿所述第一反应腔的进口至出口方向依次排布，且每个所述催化剂部件沿所述第一反应腔的横截面延伸设置，所述气体喷头设置于相邻两个所述催化剂部件之间。

根据本发明提供的一种废气处理系统，所述催化剂部件的形状为网格状。

根据本发明提供的一种废气处理系统，所述氮氧化物处理装置还包括还原剂喷淋组件，所述还原剂喷淋组件包括还原剂喷头和还原剂储存罐，所述还原剂喷头设置于所述第一反应腔的进口位置，所述还原剂储存罐与所述还原剂喷头连通。

根据本发明提供的一种废气处理系统，所述还原剂喷淋组件还包括计量泵和第一阀体，所述第一阀体与所述计量泵依次设置于所述还原剂喷头与所述还原剂储存罐连通的管路上。

根据本发明提供的一种废气处理系统，还包括排气装置，所述排气装置的进口与所述第一反应腔的出口连通，所述第一反应腔的出口设有温度检测器，所述反应装置还包括第二阀体，所述第二阀体与所述降温喷头连接。