[发明专利]图案转印系统、双通道生产线及图案转印方法在审
申请号: | 202111321391.3 | 申请日: | 2021-11-09 |
公开(公告)号: | CN116100937A | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 加德·伊格拉;埃亚尔·科恩;埃兰·云格;摩西·菲纳罗夫;徐涛;石径;童为国;李志刚 | 申请(专利权)人: | 武汉帝尔激光科技股份有限公司 |
主分类号: | B41F16/00 | 分类号: | B41F16/00;B41F13/02;B41F23/00;B41F23/04;B41F33/16 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 周慧敏 |
地址: | 430223 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 系统 双通道 生产线 方法 | ||
1.一种图案转印系统,包括:
带处理单元,所述带处理单元配置为处理带,所述带包括作为其分段的多个图案转印片,所述多个图案转印片具有各自的沟槽图案,并且所述带处理单元配置为可控制地传送所述图案转印片以便进行浆料填充并相继地进行图案转印;
浆料填充单元,所述浆料填充单元配置为将导电印刷浆料填充到传送的所述图案转印片上的沟槽;
晶片处理单元,所述晶片处理单元配置成将至少一个晶片可控制地传送至靠近所述图案转印片的位置处以便图案转印;
浆料转印单元,所述浆料转印单元配置为通过在激光束的照射下从填充有所述导电印刷浆料的图案转印片的沟槽中释放该导电印刷浆料而将该导电印刷浆料从所述图案转印片转印至传送到位的晶片上;
其中,所述带处理单元配置为将所述带以步进且重复的模式从放料辊移动到收料辊。
2.根据权利要求1所述的图案转印系统,其中,所述带处理单元被进一步配置为逐一的传送所述图案转印片以便进行浆料填充和/或图案转印。
3.根据权利要求1或2所述的图案转印系统,其中,所述带处理单元还包括至少一个顶部调节器和至少一个底部调节器,所述顶部调节器和所述底部调节器被配置为持续地保持所述带的张力。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案转印系统,还包括带重复利用单元,所述带重复利用单元被配置为在所述图案转印之后清洁所述图案转印片以提供可重复利用的图案转印片。
5.根据权利要求4所述的图案转印系统,其中,所述带重复利用单元包括用于去除浆料团的预清洁隔间、构造用于去除细浆料残留物的清洁隔间和用于在收料之前干燥所述带的干燥单元。
6.根据权利要求5所述的图案转印系统,其中,所述带重复利用单元还包括至少一个调节器和/或辊,所述调节器和/或辊被配置为对移动通过所述带重复利用单元的带的张力进行保持。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的图案转印系统,其中,所述浆料填充单元包括可移动的浆料填充头和被配置为在浆料填充期间支撑所述图案转印片的背面的相对可移动辊。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的图案转印系统,其中,所述浆料填充单元设置为相对于竖向轴线成0-30°范围内的角度。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的图案转印系统,其中,所述晶片处理单元包括能够沿着x轴和z轴移动的至少一个平台,所述至少一个平台中的每个平台包括至少一个保持器,其中所述至少一个保持器中的每个保持器支撑晶片并使该晶片能够沿着y轴、θ轴移动。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的图案转印系统,其中,所述浆料转印单元被配置为控制通过激光束对所述转印片上的填充有浆料的沟槽的照射。
11.根据权利要求10所述的图案转印系统,其中,对填充有浆料的沟槽的所述照射在光学头的帮助下逐一地完成,所述光学头能够沿着机器方向进行激光扫描并且能够沿着横向机器方向移动。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的图案转印系统,还包括带拉伸单元,所述带拉伸单元被配置为在所述图案转印期间固定和拉平相应的图案转印片。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的图案转印系统,还包括沟槽对准监测单元,所述沟槽对准监测单元被配置为在所述图案转印之前监测所述沟槽的位置和形变。
14.根据权利要求13所述的图案转印系统,其中,所述沟槽对准检测单元包括多个第一成像相机和至少两个第二成像相机,所述多个第一成像相机被配置为捕捉所述沟槽的端部,所述第二成像相机相对于竖向方向倾斜并且配置为捕捉所述沟槽的中间部分。
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