[发明专利]无碱玻璃基板在审

专利信息
申请号: 202111323083.4 申请日: 2016-05-11
公开(公告)号: CN114014537A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 齐藤敦己;村田哲哉 申请(专利权)人: 日本电气硝子株式会社
主分类号: C03C3/087 分类号: C03C3/087;C03B5/027;C03B17/06;C03C3/091;H01L51/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 玻璃
【权利要求书】:

1.一种无碱玻璃基板,其特征在于,作为玻璃组成,以摩尔%计含有SiO2 60~80%、Al2O3 8~25%、B2O3 0%以上且小于3%、Li2O+Na2O+K2O 0%以上且小于1%、MgO 0~10%、CaO 1~15%、SrO 0~12%、BaO 0~12%、As2O3 0%以上且小于0.05%、以及Sb2O3 0%以上且小于0.05%,板厚为0.05~0.7mm,应变点为700℃以上,且β-OH值小于0.20/mm。

2.如权利要求1所述的无碱玻璃基板,其特征在于,作为玻璃组成,以摩尔%计含有SiO265~78%、Al2O3 8~20%、B2O3 0%以上且小于1%、Li2O+Na2O+K2O 0%以上且小于0.5%、MgO 0~8%、CaO 1~8%、SrO 0~8%、BaO 1~8%、As2O3 0%以上且小于0.01%、以及Sb2O3 0%以上且小于0.01%,板厚为0.1~0.5mm,应变点为730℃以上,且β-OH值小于0.15/mm。

3.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板,其特征在于,B2O3的含量小于0.1摩尔%。

4.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板,其特征在于,B2O3的含量为0.1摩尔%以上且小于1摩尔%。

5.如权利要求1~4中任一项所述的无碱玻璃基板,其特征在于,作为玻璃组成,还含有0.001~1摩尔%的SnO2

6.如权利要求1~5中任一项所述的无碱玻璃基板,其特征在于,作为玻璃组成,还含有0.001~1摩尔%的Cl、以及0.0001~1摩尔%的SO3

7.如权利要求1~6中任一项所述的无碱玻璃基板,其特征在于,液相温度为1300℃以下。

8.如权利要求1~7中任一项所述的无碱玻璃基板,其特征在于,102.5dPa·s的粘度时的温度为1750℃以下。

9.如权利要求1~8中任一项所述的无碱玻璃基板,其特征在于,以5℃/分的升温速度从常温升温至500℃并在500℃保持1小时后,以5℃/分的降温速度冷却至常温时的热收缩值为20ppm以下。

10.如权利要求1~9中任一项所述的无碱玻璃基板,其特征在于,其用于有机EL器件的基板。

11.一种无碱玻璃基板的制造方法,其特征在于,具有以下工序:

熔融工序,对以得到以下无碱玻璃的方式调配而成的玻璃配合料,进行利用加热电极的通电加热而不进行利用燃烧器的燃烧火焰的加热,从而得到熔融玻璃,所述无碱玻璃,作为玻璃组成,以摩尔%计含有SiO2 60~80%、Al2O3 8~25%、B2O3 0%以上且小于3%、Li2O+Na2O+K2O 0%以上且小于1%、MgO 0~10%、CaO 1~15%、SrO 0~12%、BaO 0~12%、As2O3 0%以上且小于0.05%、以及Sb2O3 0%以上且小于0.05%,应变点为700℃以上,且β-OH值小于0.20/mm;以及

成形工序,通过溢流下拉法将所得到的所述熔融玻璃成形为板厚0.1~0.7mm的平板形状。

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