[发明专利]一种二次流发生装置有效

专利信息
申请号: 202111326501.5 申请日: 2021-11-10
公开(公告)号: CN114034460B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 张海灯;秦立涛;吴云;李应红;朱玉杰;孙恩博;汪一舟 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军工程大学
主分类号: G01M9/04 分类号: G01M9/04;G01M9/02;G01M9/08
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 高艳辉
地址: 710038 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 二次 发生 装置
【权利要求书】:

1.一种二次流发生装置,其特征在于,包括:

高压气源;

气体测控系统,与高压气源的出口端相连;

整流风筒(7),包括扩张段(8)、稳压腔(9)及第一收缩段(11),扩张段(8)、稳压腔(9)及第一收缩段(11),按气体流向依次连接,扩张段(8)入口通过PU管与气体测控系统出口端相连;

矩形喷嘴(12),连接在整流风筒(7)的出口,所述矩形喷嘴(12)采用双三次曲线设计,其喷口矩形;

检测舱,与矩形喷嘴(12)头部依靠方槽装配;

低速直流风洞,与检测舱入口连通;

所述低速直流风洞包括第二收缩段(23),所述第二收缩段(23)与检测舱入口连通,第二收缩段(23)依次连接第二扩张段(20),稳流段(21)及静流段(22);

该装置通过调整气源风机的转速来调节来流总压Ptinlet,γ为喷气/来流总压比,计算式为式中,Ptinlet为喷气总压,Ptinlet为来流总压;

该二次流发生装置的总压损失系数ω的计算式如下:

式(1)中,vinlet为所述检测舱入口速度,ρ为空气介质密度,massinjet为所述矩形喷嘴(12)喷出空气介质质量平均流量,massinjet为关注范围内来流质量流量,Pt为所述矩形喷嘴(12)后二次流流场测量总压。

2.根据权利要求1所述的一种二次流发生装置,其特征在于,所述高压气源包括空压机(1),所述空压机(1)出口依次连接有冷凝器及油水分离器。

3.根据权利要求1所述的一种二次流发生装置,其特征在于,所述气体测控系统包括流量计(4),所述流量计(4)依次连接调压计I(5)与调压计II(6),流量计(4)连接在高压气源的出口端,所述扩张段(8)扩张比为200;

所述稳压腔(9),截面形状为矩形,稳压腔(9),截面形状为矩形,其入口与扩张段(8)出口连通;

所述第一收缩段(11),第一收缩段(11)采用双三次曲线设计,第一收缩段(11)的收缩比为30。

4.根据权利要求3所述的一种二次流发生装置,其特征在于,所述稳压腔内设置有总压管(10)。

5.根据权利要求1所述的一种二次流发生装置,其特征在于,所述检测舱包括侧板I(14)与侧板II(15),侧板I(14)与侧板II(15)上端与下端分别由插板(16)与移测板(17)连接,检测舱整体为四棱柱结构,检测舱一端端部固接安装孔板(18),安装板(13)纵向插入进检测舱内部,安装板(13)插入进检测舱的侧壁紧贴检测舱内壁。

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