[发明专利]一种用于形成三维线圈应答器的结构在审
申请号: | 202111328513.1 | 申请日: | 2021-11-10 |
公开(公告)号: | CN114492707A | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 钟旻峰;邱冠谕;游锦祥 | 申请(专利权)人: | 乾坤科技股份有限公司 |
主分类号: | G06K19/077 | 分类号: | G06K19/077 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 形成 三维 线圈 应答器 结构 | ||
1.一种用于形成三维线圈应答器的结构,其特征在于,该结构包括:
多组分离的接脚,其中每组接脚由一分离的绝缘成型体封装;以及
一磁性体,设置在该多个分离的接脚组之上,其中每个所述绝缘成型体不延伸跨越两组或更多组接脚。
2.如权利要求1所述的结构,其特征在于,一第一线圈设置在该磁性体上并围绕于X轴,其中,该第一线圈由一第一绝缘导线形成,该第一绝缘导线具有与该磁性体的一底面接触的一部分。
3.如权利要求1所述的结构,其特征在于,一第二线圈设置在该磁性体上并围绕于Y轴,其中,该第二线圈由一第二绝缘导线形成,该第二绝缘导线具有与磁性体的一底面接触的一部分。
4.如权利要求1所述的结构,其特征在于,所述磁性体上设置有一第三线圈围绕于Z轴,该第三线圈由与所述磁性体接触的一第三绝缘导线构成。
5.如权利要求1所述的结构,其特征在于,所述磁性体上设置有一保护层,所述保护层上设置有围绕于X轴的一第一线圈,其中所述第一线圈由一第一绝缘导线形成,所述第一绝缘导线具有与所述保护层的一底面接触的一部分。
6.如权利要求1所述的结构,其特征在于,所述磁性体上设置有一保护层,所述保护层上设置有围绕于Y轴的一第二线圈,其中所述第二线圈由一第二绝缘导线构成,所述第二绝缘导线具有与所述保护层的一底面接触的一部分。
7.如权利要求1所述的结构,其特征在于,所述磁性体上设置有保护层,所述保护层上设置有围绕于Z轴的一第三线圈,所述第三线圈由与保护层接触的一第三绝缘导线构成。
8.如权利要求1所述的结构,其特征在于,每组接脚由两根接脚组成,其中每一接脚的一部分从其对应的绝缘成型体中暴露出来,以形成表面贴装的垫片。
9.如权利要求2所述的结构,其特征在于,该第一绝缘导线由一漆包线制成,其中该漆包线的端部与相应的接脚相连。
10.如权利要求1所述的结构,其特征在于,该磁性体包括一顶部,其中该顶部与一相对应的绝缘成型体形成一空间,其中部分绕Z轴的线圈设置于该空间中。
11.一种形成用于形成三维线圈应答器的结构的方法,其特征在于,该方法包括:
形成多组分离的接脚,其中每组接脚由一分离的绝缘成型体封装;以及
在所述多组分离的接脚的上方设置一磁性体,其中每个所述绝缘成型体不延伸跨越两组或更多组接脚。
12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,一第一线圈设置在该磁性体上并围绕于X轴,其中,该第一线圈由一第一绝缘导线形成,该第一绝缘导线具有与该磁性体的一底面接触的一部分。
13.如权利要求11所述的方法,其特征在于,一第二线圈设置在该磁性体上并围绕于Y轴,其中,该第二线圈由一第二绝缘导线形成,该第二绝缘导线具有与该磁性体的一底面接触的一部分。
14.如权利要求11所述的方法,其特征在于,一第三线圈设置在该磁性体上并围绕于Z轴,其中该第三线圈由与该磁性体接触的一第三绝缘导线构成。
15.如权利要求11所述的方法,其特征在于,一保护层设置在该磁性体上,其中一第一线圈设置在该保护层上并围绕于X轴,其中,该第一线圈由一第一绝缘导线形成,该第一绝缘导线具有与该保护层的一底面接触的一部分。
16.如权利要求11所述的方法,其特征在于,一保护层设置在该磁性体上,其中一第二线圈设置在该保护层上并围绕于Y轴,其中,该第二线圈由一第二绝缘导线形成,该第二绝缘导线具有与该保护层的一底面接触的一部分。
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