[发明专利]用于增材制造机器的辐照方案

权利要求书

1.一种增材制造三维物体的方法，其特征在于，所述方法包括：

确定要用增材制造机器增材制造的物体的层的多个物体元件的辐照方案，所述多个物体元件包括核区和壳区，所述壳区至少部分地围绕所述核区；以及

至少部分地通过用所述增材制造机器的一个或多个辐照装置辐照构建平面的层来形成所述多个物体元件；

其中所述多个物体元件中的至少一个的所述辐照方案包括核-壳辐照方案，和/或其中所述多个物体元件中的至少一个的所述辐照方案包括核-壳分配辐照方案。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

用从第一辐照装置发射的第一能量束辐照所述核区；以及

用来自第二辐照装置的第二能量束辐照所述壳区。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

用第一设定点处的辐照参数辐照所述核区；以及

用第二设定点处的所述辐照参数辐照所述壳区，所述第二设定点不同于所述第一设定点。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，其中所述辐照参数包括束功率、强度、强度分布、功率密度、斑尺寸、斑形状、扫描图案和/或扫描速度。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

将所述多个物体元件的第一部分分配给第一物体元件组；

将所述多个物体元件的第二部分分配给第二物体元件组；

至少部分地通过用第一辐照装置辐照所述构建平面的所述层来形成所述多个物体元件的所述第一部分；以及

至少部分地通过用第二辐照装置辐照所述构建平面的所述层来形成所述多个物体元件的所述第二部分；

其中所述第一物体元件组和所述第二物体元件组具有基本平衡的总表面面积和/或基本平衡的辐照时间。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，其中不能通过将一个或多个物体元件分配到不同物体元件组来减小总表面面积和/或总辐照时间的绝对差，所述不同物体元件组选自所述第一物体元件组、所述第二物体元件组和第三物体元件组。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，包括：

至少部分地确定所述多个物体元件中的至少一些的所述核区和/或所述壳区的一个或多个尺寸，以在所述第一物体元件组和所述第二物体元件组之间提供基本平衡的总表面面积和/或基本平衡的总辐照时间。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

至少部分地确定所述多个物体元件中的至少一些的所述核区和/或所述壳区的一个或多个尺寸，以在所述多个物体元件的所述核区和所述壳区之间提供基本平衡的总表面面积和/或基本平衡的总辐照时间。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

至少部分地基于核-壳分配因子的设定点在所述核区和所述壳区之间分配所述多个物体元件中的至少一些，至少部分地基于相应物体元件的所述核区和/或所述壳区的表面面积和/或辐照时间来确定所述核-壳分配因子的所述设定点。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

至少部分地基于核区分配因子的设定点在第一辐照装置和第二辐照装置之间分配所述核区，至少部分地基于相应物体元件的所述核区和/或所述壳区的表面面积和/或辐照时间来确定所述核区分配因子的所述设定点。