[发明专利]高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器在审
申请号: | 202111339730.0 | 申请日: | 2021-11-12 |
公开(公告)号: | CN113939165A | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 刘弘耀;毛赛君;丁育杰 | 申请(专利权)人: | 忱芯电子(苏州)有限公司 |
主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20;H05K1/18;H01L23/367;H02M1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高频 功率密度 扁平 sic mosfet 逆变器 | ||
本申请涉及功率器件,公开了一种高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器,包括位于PCB板上的偶数组单管组,所述单管组阵列设置,每组所述单管组由多个单管并联而成。通过上述技术方案中单管的摆放方式有利于保证各单管在PCB板上的功率回路杂感保持一致,以实现良好的均流特性,且减小整体占用空间。
技术领域
本申请涉及功率器件,尤其涉及一种高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器。
背景技术
目前,多单管并联逆变器广泛应用于大功率电力电子变换器中。但是,多颗单管并联目前面临着很多挑战,包括如何保证各并联单管之间的均流性能,如何提高逆变器整体的功率密度等。
SiC MOSFET相比于硅基功率半导体器件具有更高的开关速度,器件均流难度大。如图1所示,相关技术方案多采取将并联单管1一字排开固定到一个散热器2上,这种方案应用于SiC MOSFET并联时,不仅均流度难以保证,更是使得整个逆变器体积很难做小。如图2所示,另外一种常用方案是每个单管1使用一个散热器2,各单管1并排摆放,但是这样占用较大空间。
发明内容
针对上述关键问题,本申请提供了一种高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器,可以实现良好的均流性能,且能够减小整体占用空间。
本申请提供的高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器的技术方案为:
高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器,包括位于PCB板上的偶数组单管组,所述单管组阵列设置,每组所述单管组由多个单管并联而成。
通过采用上述技术方案,通过上述技术方案中单管的摆放方式有利于保证各单管在PCB板上的功率回路杂感保持一致,以实现良好的均流特性,且减小整体占用空间。
在一些实施方式中,逆变器的DC母线的薄膜电容、陶瓷电容以及贴片电阻位于相邻列单管组之间。
通过采用上述技术方案,有效利用PCB板面积,大大增加了逆变器的功率密度,同时,保证陶瓷电容加贴片电阻回路足够靠近SiC MOSFET,减小回路杂感,降低MOSFET电压应力。
在一些实施方式中,所述薄膜电容与所述陶瓷电容分别位于所述PCB板两面同一区域且相对设置,所述贴片电阻位于所述陶瓷电容同一面且位于陶瓷电容两侧。
通过采用上述技术方案,进一步有效利用PCB板面积,增加逆变器的功率密度。
在一些实施方式中,所述薄膜电容与两侧所述单管组之间的距离相等。
通过采用上述技术方案,保证薄膜电容和各个并联MOSFET单管距离一致,使得并联MOSFET间均流设计更加容易。
在一些实施方式中,逆变器的驱动电源变压器位于所述陶瓷电容同侧。
在一些实施方式中,所述驱动电源变压器为平面变压器。
通过采用上述技术方案,将驱动电源变压器位设置于陶瓷电容同侧,且采用平面变压器,进一步降低整个逆变器高度,整个逆变器高度最终由散热器、PCB板厚度、驱动电源变压器厚度决定。
在一些实施方式中,相邻列所述单管组内的单管以错开一个单管的方式并排设置。
通过采用上述技术方案,有助于散热,以及电路走线对称,提高功率密度。
在一些实施方式中,每个所述单管对应设置有一个散热器。
通过采用上述技术方案,提高了整体散热性能。
本申请提供的高频高功率密度扁平化SiC MOSFET逆变器与相关技术相比:
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