[发明专利]一种硅烷清洗药剂的清洗工艺

权利要求书

1.一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：步骤一、预脱脂；

步骤二、脱脂；

步骤三、水洗；

步骤四、纯水洗；

步骤五、硅烷处理；

步骤六、烘干。

2.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤一中预脱脂采用在预脱脂槽的内部将自来水加到规定水位的2/3，加5％的脱脂剂POH-ZL12A和1％的脱脂剂POH-ZL12B，搅拌使之充分溶解；将水位加至工作水位。

3.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤二中脱脂采用在脱脂槽的内部将自来水加到规定水位的2/3，加5％的脱脂剂POH-ZL12A和1％的脱脂剂POH-ZL12B，搅拌使之充分溶解；将水位加至工作水位。

4.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤三中水洗采用在水洗槽的内部添加自来水，将水位加至工作水位。

5.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤四中纯水洗采用在纯水槽的内部添加RO纯水，将水位加至工作水位。

6.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤五中硅烷处理采用在硅烷处理槽的内部将纯水，电导率＜100us/cm，加水至3/4的工作水位，按2‰的比例慢慢加入Psi-69H硅烷，充分搅拌混合均匀，加水至工作水位。

7.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤六中烘干操作采用在哄房的内部进行烘干操作，且温度设置在160℃-190℃。

8.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤五中硅烷处理中的硅烷处理剂使用的主要材料是含硅基的有机、无机的杂化物，其分子式为：R'(CH2)nSi(OR)3。

9.根据权利要求1所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：所述步骤五中硅烷处理是以有机硅烷为主要原料对金属材料进行表面处理的过程；

硅烷在水溶液中通常以水解的形式存在：

-Si(OR)3+H2O→—Si(OH)3+3ROH。

10.根据权利要求9所述的一种硅烷清洗药剂的清洗工艺，其特征在于：-SiOH基团与金属表面的MeOH基团的缩水反应而快速吸附于金属表面：

-SiOH+MeOH＝-SiOMe+H2O。