[发明专利]一种电子元器件生产加工用清洗设备

说明书

本发明涉及一种清洗设备，尤其涉及一种电子元器件生产加工用清洗设备。本发明的目的是提供一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。技术方案：一种电子元器件生产加工用清洗设备，包括有支撑脚、清洗仓、干燥仓、滑盖、爬梯、清洗机构和承载机构，清洗仓一侧设有干燥仓，干燥仓上对称设有支撑脚，干燥仓上滑动式设有滑盖，干燥仓一侧设有爬梯，清洗仓上设有清洗机构，清洗机构部件上设有承载机构。本发明通过清洗机构、承载机构与筛动机构之间的配合，使得本设备的清洗效率得以提高，且电子元器件清洗的更加彻底。

技术领域

本发明涉及一种清洗设备，尤其涉及一种电子元器件生产加工用清洗设备。

背景技术

电子元器件在生产加工时，会经过切割、打磨、焊接等操作，因此电子元器件的表面会残留一些杂污，在加工生产之后需要对其进行清洗，从而去除其表面的毛刺和碎屑，现有的电子元器件清洗装置大多是对电子元器件进行冲洗，然而冲洗方式不仅浪费水资源，同时对于一些粘附在电子元器件表面的碎屑无法做到清洗彻底，影响电子元器件的质量。

因此，需研发一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。

发明内容

为了克服现有的冲洗方式不仅浪费水资源，且无法做到清洗彻底的缺点，本发明的目的是提供一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。

技术方案：一种电子元器件生产加工用清洗设备，包括有：

支撑脚、清洗仓、干燥仓、滑盖、爬梯、清洗机构和承载机构，清洗仓一侧设有干燥仓，干燥仓上对称设有支撑脚，干燥仓上滑动式设有滑盖，干燥仓一侧设有爬梯，清洗仓上设有清洗机构，清洗机构部件上设有承载机构。

此外，特别优选的是，清洗机构包括有水箱、进水口、水泵、出水管、高压喷头和触发开关，清洗仓上设有水箱，水箱与清洗仓一侧之间设有进水口，水箱上设有水泵，水泵上对称设有出水管，出水管均与清洗仓一侧连接，出水管上均设有高压喷头，清洗仓上设有触发开关。

此外，特别优选的是，承载机构包括有第一电动推杆、衔接连板、第一限位板、湿度传感器、存放箱和第一距离传感器，清洗仓上对称设有第一电动推杆，第一电动推杆伸缩杆上均设有衔接连板，衔接连板上均滑动式设有第一限位板，第一限位板均与同侧的衔接连板之间连接有两个弹性件，清洗仓上设有湿度传感器，第一限位板一侧之间滑动式放置有存放箱，一侧的衔接连板上设有第一距离传感器。

此外，特别优选的是，还包括有筛动机构，筛动机构包括有安装板和齿条板，清洗仓一侧设有安装板，安装板两侧均与同侧的第一电动推杆滑动式连接，安装板一侧设有齿条板。

此外，特别优选的是，还包括有污水处理机构，污水处理机构包括有第二限位板、漏斗和过滤板，安装板三侧均设有第二限位板，安装板上设有漏斗，第二限位板之间放置有过滤板。

此外，特别优选的是，还包括有拉动机构，拉动机构包括有磁石、支板、第二电动推杆、连杆、电磁铁和第二距离传感器，存放箱上对称设有磁石，干燥仓上设有支板，支板上设有第二电动推杆，第二电动推杆伸缩杆一侧设有连杆，连杆上对称设有电磁铁，连杆上设有第二距离传感器。

此外，特别优选的是，还包括有烘干机构，烘干机构包括有导轨、挡块和发热环，干燥仓上对称设有导轨，干燥仓上设有挡块，干燥仓一侧设有发热环，发热环位于导轨之间。

此外，特别优选的是，还包括有控制箱，清洗仓一侧设有控制箱，控制箱包括有开关电源、电源模块和控制模块，开关电源为整个设备供电，开关电源输出端与电源模块通过电性连接，电源模块上通过线路连接有电源总开关，电源模块与控制模块通过电性连接；控制模块上连接有DS1302时钟电路和24C02电路；湿度传感器、触发开关、第一距离传感器和第二距离传感器都与控制模块通过电性连接，水泵、第一电动推杆、第二电动推杆、电磁铁和发热环都与控制模块通过继电器控制模块连接。