[发明专利]一种高截止深度的双通道滤光片及其制备方法

权利要求书

1.一种高截止深度的双通道窄带滤光片，该滤光片包括基板、主叠层膜系和副叠层膜系，所述主叠层膜系和所述副叠层膜系分别位于所述基板的两侧，其特征在于：所述主叠层膜系和所述副叠层膜系的组合体系使所述滤光片可透过波长540-570nm和680-700nm波段光，且所述滤光片对紫外线至近红外线波长范围内的其余波段光截止。

2.根据权利要求1所述的一种高截止深度的双通道窄带滤光片，其特征在于：所述主叠层膜系和所述副叠层膜系是由高折射率层和低折射率层交替叠加构成。

3.根据权利要求2所述的一种高截止深度的双通道窄带滤光片，其特征在于：所述高折射率材料为NbOx，所述低折射率材料为SiOx。

4.根据权利要求1所述的一种高截止深度的双通道窄带滤光片，其特征在于：所述滤光片在波长540-570nm和680-700nm波段光的透过率为95%以上。

5.根据权利要求1所述的一种高截止深度的双通道窄带滤光片，其特征在于：所述副叠层膜系的总厚度不超过所述主叠层膜系的总厚度的110%。

6.一种涉及权利要求1-5中任一项所述的高截止深度的双通道窄带滤光片的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：

在滤光片的基板的两侧表面依次镀制叠层膜系，首先在所述基板的一侧表面镀制主叠层膜系，而后在所述基板的另一侧表面镀制副叠层膜系，其中所述主叠层膜系的层数大于所述副叠层膜系的层数。

7.根据权利要求6所述的一种高截止深度的双通道窄带滤光片的制备方法，其特征在于：使所述基板在镀制叠层膜系的过程中转动。