[发明专利]一种难熔高熵合金涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202111347661.8 | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN114032544A | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 刘洪喜;樊尧;张晓伟;郝轩宏;王悦怡 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10;C22C30/00 |
| 代理公司： | 宁波海曙甬睿专利代理事务所(普通合伙) 33330 | 代理人： | 朱松峰 |
| 地址： | 650093 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 难熔高熵 合金 涂层 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种难熔高熵合金涂层，其特征在于，由下述原料制备而成：Ti：4％～20％、Zr：20％：、Mo：20％、Nb：20％、Cr：20％。
2.根据权利要求1所述一种难熔高熵合金涂层，其特征在于，所述Ti元素具体含量分别为4％，8％，12％，18％、20％。
3.根据权利要求1至2任意一项所述一种难熔高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，包括：
S1将TC4(Ti-6Al-4V)基体表面经过除锈除油处理，使基片表面清洁平整且具有一定的粗糙度；
S2将各粉末混合后，进行真空球磨，粉末粒径为180～300目；
S3并将得到合金粉末与5～10％的无水乙醇混合，均匀涂覆在基体表面，行成预制层；
S4放入干燥箱中10小时后通过激光熔覆即获得熔覆层。
4.根据权利要求3所述一种难熔高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，所述真空球磨时间不少于3小时。
5.根据权利要求3所述一种难熔高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，所述预制涂层厚度为1.0mm。
6.根据权利要求3所述一种难熔高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，所述激光熔覆时的工艺参数为：激光功率为3700W，扫描速度为350mm/min，光斑直径为3.0mm，离焦量为20mm，保护气体采用氩气，气体流量为8L/min。
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