[发明专利]在零件例如钟表机构部件上沉积涂层的方法以及由此方法涂覆的零件

权利要求书

1.一种在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，所述零件例如是钟表机构部件，此方法可以向所述基底(10)着色，所述沉积方法(100)的特征在于其包括：

-第一个步骤(110)：在基底(10)上沉积第一不透明层(11)；

-第二个步骤(120)：通过ALD(原子层沉积)方法沉积至少两个半透明层(12,13)的堆叠体(20)，其覆盖所述第一层(11)；选择堆叠体(20)的厚度(e2)以得到具有干扰现象的颜色。

2.根据前述权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于第一个步骤(110)是在所述基底(10)上沉积第一金属或陶瓷层(11)的步骤。

3.根据前述权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于所述第一层(11)是TiN、TiCN、TiCNO、TiC、ZrN、ZrCN、ZrCNO、ZrC、HfN、HfCN、HfCNO、HfC、YN、YD、YCN,YCNO、TaN、TaC、TaCN、TaCNO、AlN、AlCN、AlCNO、CrN、CrC、CrNO、CrCNO、VN、VC、VCN、VCNO、TiZrN、TiZrCN、TiZrC、TiZrCNO、NbN、NbC、NbCN、NbCNO、WN、WC、WCN、WCNO、MoN、MoC、MoCN或MoCNO的层。

4.根据前述权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于所述第一层(11)的化学性质是根据所述涂层的具有干扰现象的颜色按照CIELAB标准的L*参数来选择。

5.根据前述任一项权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于第一个步骤(110)是通过PVD(物理气相沉积)方法来进行。

6.根据前述任一项权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于在第一个步骤(110)期间沉积的第一层(11)具有大于450nm的厚度(e₁)，优选具有500nm至1μm的厚度。

7.根据前述任一项权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于所述堆叠体(20)中的至少两个半透明层(12,13)具有不同的化学性质和/或具有不同的折射率。

8.根据前述任一项权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于所述堆叠体(20)中的至少两个半透明层(12,13)各自的厚度是根据所述涂层的具有干扰现象的颜色按照CIELAB标准的a*和b*参数来选择。

9.根据前述任一项权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于在第二个步骤(120)期间沉积的堆叠体(20)中的所述至少两个半透明层(12,13)是选自介电材料、半导体、金属或陶瓷材料的材料层。

10.根据前述任一项权利要求所述的在基底(10)上沉积装饰性和/或保护性涂层以形成零件(1)的方法(100)，其特征在于在第二个步骤(120)期间沉积的堆叠体(20)中的所述至少两个半透明层(12,13)是选自以下的材料的层：Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、Ta₂O₅、HfO₂、ZrO₂、ZnO、SnO、Al、Ru、Ir、Pt、TiN、TaN、Si₃N₄、WN、NbN。