[发明专利]光学部件形成用感光性组合物、及固化物、微透镜、微透镜图案的制造方法、及微透镜在审

专利信息
申请号: 202111357295.4 申请日: 2021-11-16
公开(公告)号: CN114545731A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 矶部信吾;井上朋之;中村友治;中尾拓人 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社;三亚普罗股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G02B3/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 牛蔚然
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 部件 形成 感光性 组合 固化 透镜 图案 制造 方法
【权利要求书】:

1.光学部件形成用感光性组合物,其包含光阳离子固化剂(A)、丙烯酸树脂(B)、和不属于所述丙烯酸树脂(B)的交联剂(C),

所述光阳离子固化剂(A)为包含下述式(a1)表示的阴离子部的鎓盐,

所述丙烯酸树脂(B)为具备至少具有阳离子聚合基团的结构单元(b1)的丙烯酸树脂,

式(a1)中,R1a~R4a各自独立地表示可具有取代基的烃基、或可具有取代基的杂环基,R1a~R4a中的至少一者表示可具有取代基的芳香族烃基。

2.如权利要求1所述的光学部件形成用感光性组合物,其中,所述光阳离子固化剂(A)包含下述式(a2)表示的阳离子部,

式(a2)中,R11a~R18a各自独立地表示烷基、羟基、烷氧基、芳基、芳基氧基、羟基(聚)亚烷基氧基、氰基、硝基、卤素原子或氢原子,

R19a~R24a各自独立地表示烷基、羟基、烷氧基、芳基、芳基氧基、羟基(聚)亚烷基氧基、氰基、硝基或卤素原子,

n1~n4各自独立地表示0以上且1以下的整数,n1~n4为0时,表示环彼此的直接键合,

m1~m6分别表示R19a~R24a的个数,m1、m4及m6各自表示0以上且4以下的整数,m2及m5表示0以上且3以下的整数,m3表示0以上且5以下的整数。

3.如权利要求2所述的光学部件形成用感光性组合物,其中,所述式(a2)中的n2及n4为0。

4.如权利要求1所述的光学部件形成用感光性组合物,其中,所述丙烯酸树脂(B)具备具有碱溶性基团的结构单元(b2)。

5.如权利要求4所述的光学部件形成用感光性组合物,其中,所述结构单元(b1)包含下述式(b1-1)表示的结构单元,

所述结构单元(b2)包含下述式(b2-1)表示的结构单元,

式(b1-1)中,R1b表示氢原子或甲基,R2b表示单键、或者碳原子数1以上且5以下的亚烷基,R3b表示含环氧基的基团、含氧杂环丁基的基团或含氧杂环戊基的基团,

式(b2-1)中,R4b表示氢原子或甲基,R5b表示碳原子数1以上且5以下的烷基,a表示1以上且5以下的整数,b表示0以上且4以下的整数,a+b为5以下,存在2个以上的R5b时,这些R5b彼此可以不同也可以相同。

6.如权利要求1~5中任一项所述的光学部件形成用感光性组合物,其中,所述交联剂(C)为三聚氰胺系化合物。

7.固化物的制造方法,其包括下述工序:

涂布膜形成工序,将权利要求1~6中任一项所述的光学部件形成用感光性组合物涂布于基板上而形成涂布膜;和,

曝光工序,对由所述涂布膜形成工序得到的所述涂布膜进行曝光。

8.微透镜的制造方法,其包括下述工序:

掩模形成工序,在由权利要求7所述的固化物的制造方法得到的所述固化物上设置具有与要形成的透镜的形状实质上相同的形状的掩模;和,

透镜形成工序,在所述掩模形成工序后,对所述掩模及所述固化物进行干式蚀刻,由此形成转印有所述掩模的形状的微透镜。

9.微透镜图案的制造方法,其包括下述工序:

涂布膜形成工序,将权利要求1~6中任一项所述的光学部件形成用感光性组合物涂布于基板上而形成涂布膜;

曝光工序,以位置选择性的方式对由所述涂布膜形成工序得到的所述涂布膜进行曝光;和,

显影工序,对利用所述曝光工序进行了曝光的所述涂布膜进行显影,得到经图案化的固化物。

10.微透镜,其是由权利要求1~6中任一项所述的光学部件形成用感光性组合物的固化物形成的。

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