[发明专利]清洁基站及清洁系统

权利要求书

1.一种清洁基站，其特征在于，包括：

基站本体，其设有清洁槽，供清洁机器人清洁；

清洁旋转组件，其安装于所述清洁槽内，所述清洁旋转组件上形成有出风结构，以对所述清洁机器人的底部的零部件进行风干。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁旋转组件为滚刷，在所述滚刷的旋转过程中，所述出风结构的围壁挤压空气形成吹向所述零部件的气流。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述出风结构包括刮片，所述刮片具有多个兜风槽，所述兜风槽朝向所述滚刷旋转一侧的槽壁形成所述围壁，所述滚刷旋转时，所述兜风槽汇聚气流并使气流沿所述槽壁向所述零部件的方向流动，以带走所述零部件上的水分。

4.根据权利要求3所述的清洁基站，其特征在于，所述滚刷包括滚轴和设置于所述滚轴外表面且沿所述滚轴轴向延伸的多个间隔的所述刮片。

5.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述刮片为一弧形板，所述弧形板围成所述兜风槽，各所述弧形板以所述滚轴为中心辐射式分布，且各所述弧形板的弯曲方向相同。

6.根据权利要求5所述的清洁基站，其特征在于，所述滚刷的截面呈螺旋桨状。

7.根据权利要求5所述的清洁基站，其特征在于，所述弧形板的弧度小于π。

8.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述刮片为波纹形板，各所述波纹形板以所述滚轴为中心辐射式分布，所述波纹形板包括交替分布的波峰部和波谷部，所述波峰部和所述波谷部分别围成一所述兜风槽。

9.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，在多个所述刮片中，部分刮片呈平板状，部分刮片呈褶皱状，褶皱状的刮片包括沿所述滚轴轴向方向交替设置的波峰壁和波谷壁，所述波峰壁和波谷壁分别围成一所述兜风槽。

10.根据权利要求9所述的清洁基站，其特征在于，所述波峰壁和波谷壁沿所述滚轴的长度方向形成波浪形。

11.根据权利要求9所述的清洁基站，其特征在于，呈褶皱状的刮片和呈平板状的刮片在所述滚轴的外周面交替分布。

12.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，多个所述刮片中，部分刮片为第一刮片，部分刮片为第二刮片，所述第一刮片呈片状，所述第二刮片包括多个彼此相连的弧形兜风壁，所述弧形兜风壁围成所述兜风槽，所述弧形兜风壁包括向所述滚轴的径向方向延伸的弧形壁和由所述弧形壁向所述滚轴弯曲的拱形盖壁。

13.根据权利要求12所述的清洁基站，其特征在于，两相邻的所述弧形兜风壁之间通过弧形过渡壁连接。

14.根据权利要求13所述的清洁基站，其特征在于，所述弧形过渡壁包括连接相邻两所述弧形壁的第一弧段和连接相邻两所述拱形盖壁的第二弧段，所述第一弧段的弯曲方向与所述弧形壁相反，所述第二弧段的弯曲方向与所述拱形盖壁相反。

15.根据权利要求12所述的清洁基站，其特征在于，两相邻的所述弧形兜风壁直接连接。

16.根据权利要求12-15任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述第一刮片包括平板部和由所述平板部向所述滚轴弯曲的弧形部，所述弧形部的弯曲方向与所述拱形盖壁的弯曲方向相同。

17.根据权利要求12至15任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述第一刮片为平板刮片。