[发明专利]激光转移膜在审
申请号: | 202111359170.5 | 申请日: | 2021-11-17 |
公开(公告)号: | CN114628306A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 白明基;李广会;宋政翰 | 申请(专利权)人: | 东丽尖端素材株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L33/48;C09J7/29 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 扈娟 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 转移 | ||
1.一种激光转移膜依次包括:
基材层;
热膨胀性光吸收层;以及
粘着层;
其中,在所述基材层和所述热膨胀性光吸收层之间包括有机缓冲层,
所述有机缓冲层具有0.1W/mK至0.3W/mK的热导率。
2.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述基材层为玻璃。
3.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述有机缓冲层的厚度为0.1μm至50μm。
4.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述有机缓冲层包括酯基聚合物、丙烯酸基聚合物、烯烃基聚合物或其组合。
5.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述基材层和所述有机缓冲层为单片结构。
6.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述基材层和所述有机缓冲层的总厚度为10μm至2000μm。
7.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述热膨胀性光吸收层的厚度为0.1μm至20μm。
8.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述热膨胀性光吸收层包括光吸收剂和粘结剂。
9.根据权利要求8所述的激光转移膜,其中,
所述光吸收剂包括其中最大吸收波长为780nm至1,500nm的近红外线吸收染料、金属颗粒或其组合。
10.根据权利要求8所述的激光转移膜,其中,
基于100重量份的所述热膨胀性光吸收层,所述光吸收剂的含量为1重量份至15重量份。
11.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述粘着层的厚度为1μm至30μm。
12.根据权利要求1所述的激光转移膜,其中,
所述粘着层的粘着力为0.5gf/in至500gf/in。
13.根据权利要求1所述的激光转移膜,进一步包括:
转移体,其粘附在所述粘着层的表面上。
14.根据权利要求13所述的激光转移膜,其中,
所述转移体包括半导体芯片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造