[发明专利]一种高压射流冲击式雾化装置在审
申请号: | 202111371696.5 | 申请日: | 2021-11-18 |
公开(公告)号: | CN114042388A | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 王玄玉;姚伟召;董文杰;刘志龙 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军陆军防化学院 |
主分类号: | B01F23/213 | 分类号: | B01F23/213;B01F25/21;B01F33/71;B01J13/00 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 赵丽恒 |
地址: | 102205 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高压 射流 冲击 雾化 装置 | ||
1.一种高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:包括冲击式混流室、气体射流喷嘴和至少一个液体射流喷嘴,所述冲击式混流室的一端设置有喷管,所述液体射流喷嘴和所述气体射流喷嘴均设置在所述冲击式混流室的远离所述喷管的另一端,所述液体射流喷嘴喷射的液体和所述气体射流喷嘴喷射的气体能够在所述冲击式混流室内进行至少一次冲击,所述液体射流喷嘴喷射的液体经过冲击后与所述冲击式混流室的内壁进行至少一次撞击反射,并在所述气体射流喷嘴喷射的气体的作用下,形成气溶胶,通过所述喷管喷出。
2.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述液体射流喷嘴至少为两个,各所述液体射流喷嘴位于同一高度,各所述液体射流喷嘴喷射的液体分别与所述气体射流喷嘴喷射的气体进行第N次冲击的冲击点重合,N为大于零的整数;
各所述液体射流喷嘴喷射的液体分别与所述冲击式混流室的内壁进行第M次撞击反射的撞击反射点位于同一高度,M为大于零的整数。
3.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述液体射流喷嘴为两个,两个所述液体射流喷嘴沿所述冲击式混流室的中心线对称设置。
4.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:各所述液体射流喷嘴的喷射方向均与所述冲击式混流室的中心线呈45°。
5.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述喷管的中心线与所述冲击式混流室的中心线重合。
6.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述气体射流喷嘴朝向所述喷管设置,且所述气体射流喷嘴的中心线与所述喷管的中心线重合。
7.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述冲击式混流室设置有收缩部,所述收缩部与所述喷管连接,所述收缩部的尺寸由所述冲击式混流室的另一端向所述喷管的方向逐渐减小。
8.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述液体射流喷嘴与液体射流发生器连接;所述液体射流发生器设置有流量控制阀,所述流量控制阀用于控制所述液体射流喷嘴的喷射流量。
9.根据权利要求1所述的高压射流冲击式雾化装置,其特征在于:所述气体射流喷嘴与气体射流发生器连接;所述气体射流发生器设置有压力控制阀,所述压力控制阀用于控制所述气体射流喷嘴的喷射压力。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军陆军防化学院,未经中国人民解放军陆军防化学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111371696.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。