[发明专利]彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

玻璃基板和设置在所述玻璃基板上的黑色矩阵；所述玻璃基板的有效显示区域的黑色矩阵包括多个环状的框体单元；

每个所述框体单元包括依次层叠的至少两层黑色膜层，所述黑色膜层的环宽与所述黑色膜层相距所述玻璃基板的距离程负相关。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵的有效显示区域部分的最大厚度为2um～6um。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述有效显示区域的黑色矩阵与所述玻璃基板之间形成的Tape角不大于50°。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括色阻单元，所述色阻单元设置在所述框体单元内；每个所述框体单元的任一边缘均具有遮挡区；所述遮挡区用于遮挡所述色阻单元边缘对应的电场紊乱区。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡区的宽度为所述电场紊乱区的宽度与生产工艺的对位偏差之和。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡区的宽度为4um～12um。

7.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡区的厚度为1um～2um。

8.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色膜层的层数为2、3或4。

9.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法用于制作权利要求1-7所述的彩膜基板，所述方法包括：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上形成黑色矩阵；其中，所述玻璃基板的有效显示区域包括多个环状的框体单元；每个所述框体单元包括依次层叠的至少两层黑色膜层，所述黑色膜层的环宽与所述黑色膜层相距所述玻璃基板的距离程负相关。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上形成黑色矩阵，包括：

在所述玻璃基板上涂布黑色矩阵材料；

在所述黑色矩阵材料上形成图形化掩膜；所述图形化掩膜包括多个图形单元，每个图形单元边缘的透明度程阶梯增加，每个所述图形单元与所述黑色矩阵的一个框体单元对应；

对形成有所述图形化掩膜的所述黑色矩阵材料进行曝光显影，形成所述黑色矩阵。

11.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板和权利要求1-8任一所述的彩膜基板；所述彩膜基板上具有黑色矩阵的一侧覆盖在所述阵列基板上。

12.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求11所述的显示面板。