[发明专利]一种利用麻疯树叶片直接再生的方法

权利要求书

1.一种利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)选取麻疯树顶端分生组织的第三片叶片作为外植体，对其表面消毒处理，并进行切割处理；

(2)将外植体以叶背接触培养基的方式接种至诱导愈伤组织培养基中，进行愈伤组织诱导，诱导愈伤组织培养基为在MS基本培养基中加入0.80-1.20mg/L BAP、0.20-0.60mg/LTDZ和0-0.10mg/L NAA；

(3)将愈伤组织移至诱导不定芽培养基中，进行不定芽诱导，诱导不定芽培养基为在MS基本培养基中加入1.00-2.00mg/L BAP、0.05-0.15mg/L IBA和0.50mg/L GA₃；

(4)将生长至2-3cm的不定芽连同基部的愈伤组织一同切下，移入生根培养基中，进行生根培养，培养基为在MS基本培养基中加入0-1.20mg/L IBA和0-1.50mg/L NAA。

2.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，外植体消毒处理：先用水冲洗0.50-1.00min，洗去叶片表面灰尘，用体积分数为70％乙醇浸泡15s后，放入质量分数为3％NaClO溶液中，浸泡12-16min，中间适当摇晃，消毒完成后，在超净工作台中，用组培剪和镊子将叶片切割成1cm×1cm大小。

3.根据权利要求2所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，在剪切叶片时，保留叶片的经脉，并且在叶片方块边缘多剪切3-5个切口。

4.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，诱导愈伤组织的培养基配方为MS+0.80mg/L BAP+0.60mg/L TDZ+0.10mg/L NAA。

5.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，诱导不定芽的最佳培养基配方为MS+1.00mg/L BAP+0.10mg/LIBA+0.50mg/L GA₃。

6.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，愈伤组织诱导培养方式：25℃、黑暗条件，培养三周；不定芽诱导培养方式：25℃、光照14h/黑暗10h，光照强度为40μmol/(m²·s)。

7.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，生根培养的培养基配方为MS+1.20mg/L NAA。

8.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，不定芽移入生根培养基之前先在MS培养基中培养1周。

9.根据权利要求1所述利用麻疯树叶片直接再生的方法，其特征在于，不定芽移入生根培养基之前先在浓度为200mg/L的NAA中浸泡1h。