[发明专利]分析物监测探头在审

专利信息
申请号: 202111387854.6 申请日: 2021-11-22
公开(公告)号: CN114002293A 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 陈立果;方俊飞;郭盼 申请(专利权)人: 深圳硅基传感科技有限公司
主分类号: G01N27/327 分类号: G01N27/327
代理公司: 深圳舍穆专利代理事务所(特殊普通合伙) 44398 代理人: 黄贤炬
地址: 518000 广东省深圳市宝安区新安街道*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 分析 监测 探头
【权利要求书】:

1.一种分析物监测探头,包括分散布置的工作电极、对电极和参比电极,其特征在于,所述工作电极包括:

可导电的基底层,在所述基底层表面,修饰有第一可交联基团;

传感层,其通过涂覆传感试剂而形成在所述基底层上并能够与分析物发生化学反应,所述传感试剂包括氧化还原介体、酶和交联剂,其中,所述酶含有第二可交联基团,所述氧化还原介体含有第三可交联基团;以及

聚合物膜层,所述聚合物膜层形成在所述传感层上,所述聚合物膜层含有所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团的至少一种;

其中,所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团能够与所述交联剂发生交联以使所述基底层与所述传感层通过所述交联剂形成交联,使所述传感层与所述聚合物膜层通过所述交联剂形成交联,并在所述传感层中使所述酶、所述氧化还原介体和所述交联剂形成三维网络结构。

2.根据权利要求1所述的工作电极,其特征在于,所述聚合物膜层包括依次形成在所述传感层的扩散控制层、抗干扰层和抗生物淤积层,所述聚合物膜层还包括所述交联剂,所述扩散控制层含有所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团的至少一种,所述抗干扰层含有所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团的至少一种,所述抗生物淤积层含有所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团的至少一种,所述扩散控制层、所述抗干扰层和所述抗生物淤积层之间通过所述交联剂发生交联。

3.根据权利要求1所述的工作电极,其特征在于,所述第一可交联基团选自氨基、伯胺、仲胺、叔胺、醇羟基、酚羟基、羧基、硫醇基、酰胺、酸酐基的至少一种,所述第二可交联基团选自羧基、羟基、氨基、巯基的至少一种,所述第三可交联基团选自氨基、伯胺、仲胺、叔胺、吡啶、咪唑、苯酚、羧基、酰基叠氮化物、酰基卤化物、硫醇基、烷基磺酸酯、羟胺,硫醇基、酰胺、酸酐基的至少一种。

4.根据权利要求1至3任一项所述的工作电极,其特征在于,所述交联剂选自胺反应性双官能交联剂、吡啶或咪唑反应性双官能交联剂、吡啶或咪唑反应性三官能交联剂、以及吡啶或咪唑反应性四官能交联剂中的一种或多种。

5.根据权利要求3所述的工作电极,其特征在于,使所述基底层浸泡于电解液进行电解,以使所述基底层表面修饰有所述第一可交联基团。

6.根据权利要求5所述的工作电极,其特征在于,所述电解液为氨基甲酸铵溶液,以使所述基底层表面修饰有氨基。

7.一种分析物监测探头的工作电极的制作方法,其特征在于,包括:

准备可导电的基底层并在所述基底层表面修饰第一可交联基团;

准备包括氧化还原介体、酶、交联剂的传感试剂,并在所述基底层上涂覆所述传感试剂形成传感层,其中,所述酶含有第二可交联基团,所述氧化还原介体含有第三可交联基团;并且

在所述传感层上涂覆膜聚合物以形成聚合物膜层,其中所述膜聚合物含有所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团的至少一种;

其中,所述第一可交联基团、所述第二可交联基团和所述第三可交联基团能够与所述交联剂发生交联以使所述基底层与所述传感层通过所述交联剂形成交联,使所述传感层与所述聚合物膜层通过所述交联剂形成交联,并在所述传感层中使所述酶、所述氧化还原介体和所述交联剂形成三维网络结构。

8.根据权利要求7所述的工作电极的制作方法,其特征在于,所述第一可交联基团选自氨基、伯胺、仲胺、叔胺、醇羟基、酚羟基、羧基、硫醇基、酰胺、酸酐基的至少一种,所述第二可交联基团选自羧基、羟基、氨基、巯基的至少一种,所述第三可交联基团选自氨基、伯胺、仲胺、叔胺、吡啶、咪唑、苯酚、羧基、酰基叠氮化物、酰基卤化物、硫醇基、烷基磺酸酯、羟胺,硫醇基、酰胺、酸酐基的至少一种;所述交联剂选自胺反应性双官能交联剂、吡啶或咪唑反应性双官能交联剂、吡啶或咪唑反应性三官能交联剂、以及吡啶或咪唑反应性四官能交联剂中的一种或多种。

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