[发明专利]一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构

权利要求书

1.一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，包括内框质量体(3)，外框质量体(13)、内外框耦合梁结构(15)、锚点和梳齿结构，

所述梳齿结构包括固定梳齿和活动梳齿，其中固定梳齿分布在锚点上，活动梳齿分布在内框质量体(3)和外框质量体(13)上；

所述内框质量体(3)嵌套在外框质量体(13)中，并通过内外框耦合梁结构(15)进行连接；

外框质量体(13)和内框质量体(3)上分布若干活动梳齿，且活动梳齿分布位置和锚点上固定梳齿的分布位置相互对应；对应位置处的固定梳齿和活动梳齿相互插接排列，形成梳齿结构；

所述梳齿结构包括外框轴频率消除电极梳齿结构(1)、外框轴正交补偿电极梳齿结构(7)、外框驱动轴驱动电极梳齿结构(9)、外框驱动轴敏感电极梳齿结构(11)、外框敏感轴敏感电极梳齿结构(16)和外框敏感轴驱动电极梳齿结构(17)，以及内框轴频率消除梳齿结构(2)、内框敏感轴驱动电极梳齿结构(4)、内框敏感轴敏感电极梳齿结构(5)、内框轴正交补偿电极梳齿结构(6)、内框驱动轴驱动电极梳齿结构(8)和内框驱动轴敏感电极梳齿结构(10)；

所述外框质量体(13)上的活动梳齿包括外框轴频率消除电极活动梳齿、外框轴正交补偿电极活动梳齿、外框驱动轴驱动电极活动梳齿、外框驱动轴敏感电极活动梳齿、外框敏感轴敏感电极活动梳齿和外框敏感轴驱动电极活动梳齿；

所述内框质量体(3)上的活动梳齿包括内框轴频率消除活动梳齿、内框敏感轴驱动电极活动梳齿、内框敏感轴敏感电极活动梳齿、内框轴正交补偿电极活动梳齿、内框驱动轴驱动电极活动梳齿和内框驱动轴敏感电极活动梳齿；

所述内框质量体(3)的驱动轴与敏感轴的轴向为正交分布；

所述外框质量体(13)的驱动轴与敏感轴的轴向为正交分布。

2.如权利要求1所述的一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，所述外框轴频率消除电极梳齿结构(1)和外框轴正交补偿电极梳齿结构(7)分布在外框质量体(13)的四角，外框敏感轴敏感电极梳齿结构(16)、外框敏感轴驱动电极梳齿结构(17)、外框驱动轴驱动电极梳齿结构(9)和外框驱动轴敏感电极梳齿结构(11)分布在外框质量体(13)框体边的中部。

3.如权利要求2所述一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，所述外框轴频率消除电极梳齿结构(1)在外框质量体(13)上对称布置，外框轴正交补偿电极梳齿结构(7)在外框质量体(13)上对称布置。

4.如权利要求2所述一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，外框敏感轴敏感电极梳齿结构(16)和外框敏感轴驱动电极梳齿结构(17)分布在外框相对的两条边的中部，外框驱动轴驱动电极梳齿结构(9)和外框驱动轴敏感电极梳齿结构(11)分布在外框另外两条边的中部。

5.如权利要求1所述的一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，所述内框轴频率消除梳齿结构(2)和内框轴正交补偿电极梳齿结构(6)分布在内框质量体(3)四角，内框敏感轴驱动电极梳齿结构(4)、内框敏感轴敏感电极梳齿结构(5)、内框驱动轴驱动电极梳齿结构(8)和内框驱动轴敏感电极梳齿结构(10)分布在内框质量体(3)框体边的中部。

6.如权利要求5所述的一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，所述内框敏感轴驱动电极梳齿结构(4)和内框敏感轴敏感电极梳齿结构(5)分布在内框质量体(3)相对两边的中部，内框驱动轴驱动电极梳齿结构(8)和内框驱动轴敏感电极梳齿结构(10)位于另外两边的中部。

7.如权利要求1所述的一种高抗振动型全对称MEMS陀螺仪传感器结构，其特征在于，所述外框质量体(13)由外框支承梁支撑，内框质量体(3)由内框支承梁支撑。