[发明专利]高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法及其应用

权利要求书

1.一种高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.将云母衬底进行机械解离，解离出新表面后用银胶将云母衬底背面粘贴在高温样品托表面，并放置在加热台上烘干；

S2.将烘干后的高温样品托送入磁控溅射腔体中，磁控溅射云母衬底并生长出薄膜，所述磁控溅射包括以下步骤：抽真空、对云母衬底退火、调节温度至样品生长温度、通氩气、预溅射、正式生长薄膜、对薄膜退火、降温和取样；

S3.通过拉伸模具将柔性衬底进行预拉伸；

S4.将生长有薄膜一面的云母衬底贴合在预拉伸的柔性衬底上，放入烘箱加热后取出冷却，再将云母衬底进行机械剥离，控制拉伸模具释放预拉伸，得到褶皱结构柔性薄膜。

2.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S1的云母衬底机械解离在水浴中进行，解离时使用的刀口应与云母衬底保持平行。

3.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S1中高温样品托中心部位为10mm×10mm的SiC方块，用银胶将云母衬底粘贴在SiC表面。

4.根据权利要求3所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S2中磁控溅射时，用激光加热SiC背部，在薄膜生长过程中保持云母衬底高温。

5.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，步骤S2中磁控溅射腔体的初始真空度为5×10^-8torr～5×10^-9torr，云母衬底退火与薄膜退火的加热源为激光加热，衬底退火温度为500℃～700℃，薄膜生长温度为500℃～600℃，薄膜退火温度为600℃～800℃，薄膜生长时靶材与衬底之间为30°～60°倾斜溅射，薄膜生长时高温样品托保持10转/分钟转动，薄膜退火时高温样品托保持1转/分钟转动，降温速度为0.2℃/秒～0.6℃/秒。

6.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S4中冷却的方式包括水冷和空冷。

7.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S3的预拉伸是将柔性衬底两端夹紧后进行预拉伸。

8.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S4的云母衬底机械剥离是对薄膜背部的云母衬底使用胶带进行机械剥离。

9.根据权利要求1所述的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S4的释放预拉伸是指保持柔性衬底一端固定，缓慢释放柔性衬底另一端后取下柔性薄膜。

10.一种具有可调控褶皱结构柔性薄膜在电子领域中的应用，其特征在于，将所述权利要求1-9任意一项的高温条件下制备具有可调控褶皱结构柔性薄膜的方法应用在电子领域。