[发明专利]一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法在审
| 申请号： | 202111394143.1 | 申请日： | 2021-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN114164417A | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 刘兴光;郑军;王启民;赵栋才;张林 | 申请（专利权）人： | 安徽工业大学 |
| 主分类号： | C23C16/48 | 分类号： | C23C16/48;C23C14/35;C23C14/32;C23C16/52;C23C14/54 |
| 代理公司： | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人： | 王林 |
| 地址： | 243032 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 使用 真空 紫外光 实现 沉积 不同 粒子 可控 方法 | ||
1.一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，通过至少一束具有一定光波波长分布特征的真空紫外光，对气相沉积过程中的至少一种气相粒子或固体表面原子进行光致电离。
2.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，所述气相粒子或固体表面原子为中性粒子或低价离子。
3.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，所述真空紫外光为具有一定光谱范围的非激光紫外光。
4.如权利要求3所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，所述非激光紫外光的峰值强度对应的光子能量高于所属于气相粒子的第n电离能，n为不小于1的整数。
5.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，所述真空紫外光为具有固定光波波长的激光紫外光。
6.如权利要求5所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，所述具有固定光波波长的激光紫外光的特征光波波长对应的光子能量高于所述气相粒子的第n电离能，n为不小于1的整数。
7.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，当通过两束或两束以上的具有一定光波波长分布特征的真空紫外光对气相沉积过程中的至少一种特定的气相粒子或固体表面原子进行光致电离时，每束真空紫外光针对不同的气相粒子或固体表面原子进行光致电离。
8.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，当通过两束或两束以上的具有一定光波波长分布特征的真空紫外光对气相沉积过程中的至少一种特定的气相粒子或固体表面原子进行光致电离时，所述不同的气相粒子是同一种粒子的中性态与其某价电离态离子，也可以是同一粒子的不同价态的离子。
9.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，当通过两束或两束以上的具有一定光波波长分布特征的真空紫外光对气相沉积过程中的至少一种气相粒子或固体表面原子进行光致电离时，每束真空紫外光的功率可以被独立控制。
10.如权利要求1所述的一种使用真空紫外光实现气相沉积中不同粒子可控离化的方法，其特征在于，当通过两束或两束以上的具有一定光波波长分布特征的真空紫外光对气相沉积过程中的至少一种气相粒子或固体表面原子进行光致电离时，每束真空紫外光的功率密度可以被独立控制。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
