[发明专利]一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光刻胶在光刻工艺中的应用，其特征在于，所述光刻胶包括如下原料：如式I所示的添加剂、如式(L)所示的树脂、光致产酸剂和溶剂；所述添加剂的重均分子量为1000～3000；所述添加剂的重均分子量/数均分子量比值为1～5；

2.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述添加剂采用下列方法制得，其制备方法包括以下步骤：

S1：有机溶剂中，将化合物B1与L-酒石酸二甲酯和对甲苯磺酸进行缩醛反应，制得化合物C1即可；所述化合物B1为

S2：溶剂中，在碱的作用下，将所述化合物C1进行酯水解反应，制得化合物D1即可；

S3：有机溶剂中，将所述化合物D1与4-二甲基氨基吡啶进行聚合反应，制得如式I所示的添加剂即可。

3.如权利要求2所述的应用，其特征在于，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述有机溶剂为芳烃类溶剂；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述化合物B1与所述L-酒石酸二甲酯摩尔比为1:(1～1.5)；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述化合物B1与所述对甲苯磺酸摩尔为1：(0.02～0.04)；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述缩醛反应的反应时间为26小时～60小时；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述溶剂为酮类溶剂；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述碱为无机碱；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述化合物C1与所述溶剂的摩尔体积比为0.1～0.7mol/L；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述酯水解反应的时间为3小时～15小时；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述有机溶剂为酸酐类溶剂；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述4-二甲基氨基吡啶与所述化合物D1摩尔比为1:(900～1500)；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述有机溶剂与所述化合物D1的摩尔比为3:1～7:1；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述聚合反应的时间为3小时～20小时；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述聚合反应的温度为100～200℃。

4.如权利要求2所述的应用，其特征在于，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述有机溶剂为甲苯；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述化合物B1与所述L-酒石酸二甲酯摩尔比为1:1；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述化合物B1与所述对甲苯磺酸摩尔为1:0.029；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S1中，所述缩醛反应的反应时间为48小时；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述碱为氢氧化钾和/或氢氧化钠；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述化合物C1与所述溶剂的摩尔体积比为0.5mol/L；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述酯水解反应的时间为6小时；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述有机溶剂为醋酸酐；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述4-二甲基氨基吡啶与所述化合物D1摩尔比为1:1000；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述有机溶剂与所述化合物D1的摩尔比为5:1；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述聚合反应的时间为6～16小时；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述聚合反应的温度为130～190℃。

5.如权利要求2所述的应用，其特征在于，所述添加剂的制备方法中，S2中，所述碱以碱水溶液的形式参与到反应中，所述碱与水的质量比为0.1:1～0.6:1；

和/或，所述添加剂的制备方法中，S3中，所述聚合反应分两步进行，第一步在100～140℃反应6～8小时，第二步温度升至160～200℃反应10～12小时。