[发明专利]瞬态分析的氙策略确定方法、装置、计算机设备在审

专利信息
申请号: 202111401658.X 申请日: 2021-11-19
公开(公告)号: CN113986983A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 熊昆;商超皓;程艳花;吴宇婷;胡岩;袁昭君;叶杰;梁凯雯;李秋白;黄禹;廖子昱;冯英杰;胡友森;毛玉龙;李志军 申请(专利权)人: 中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司;大亚湾核电运营管理有限责任公司
主分类号: G06F16/2455 分类号: G06F16/2455;G06Q50/06;G21C17/10
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 518048 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 瞬态 分析 策略 确定 方法 装置 计算机 设备
【权利要求书】:

1.一种瞬态分析的氙策略确定方法,其特征在于,所述方法包括:

根据计算工况从氙瞬态数据库中确定目标终态氙策略;所述氙瞬态数据库中包括氙策略和轴向功率偏差的变化范围之间的对应关系;所述氙策略包括堆芯功率和控制棒棒位;

根据目标轴向功率偏差从所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围中,确定目标轴向功率偏差对应的目标变化范围;

从所述氙瞬态数据库中确定所述目标变化范围对应的目标初扰态氙策略;

根据所述目标终态氙策略和目标初扰态氙策略确定目标氙策略。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据目标轴向功率偏差从所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围中,确定目标轴向功率偏差对应的目标变化范围,包括:

根据瞬态过程的类型和所述目标轴向功率偏差,从所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围中,确定目标轴向功率偏差对应的目标变化范围,所述瞬态过程的类型表示目标轴向功率偏差的变化趋势。

3.根据权利要求2所述方法,其特征在于,所述氙瞬态数据库包括:终态氙策略和初扰态氙策略;其中,

所述终态氙策略包括终态堆芯功率和控制棒棒位之间的对应关系;

所述初扰态氙策略包括升组氙策略和降组氙策略;所述升组氙策略包括初态堆芯功率、扰态堆芯功率、初态控制棒棒位、扰态控制棒棒位和轴向功率偏差的第一种变化范围之间的对应关系;所述降组氙策略包括初态堆芯功率、扰态堆芯功率、初态控制棒棒位、扰态控制棒棒位和轴向功率偏差的第二种变化范围之间的对应关系;所述第一种变化范围中的轴向功率偏差随着时间推移呈上升趋势,所述第二种变化范围中的轴向功率偏差随着时间推移呈下降趋势。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据瞬态过程的类型和所述目标轴向功率偏差,从所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围中,确定目标轴向功率偏差对应的目标变化范围,包括:

若所述瞬态过程的类型为轴向功率偏差越来越小的瞬态,则根据所述目标轴向功率偏差和预设的第一氙瞬态选取原则,从所述氙瞬态数据库的降组氙策略中,确定所述目标轴向功率偏差对应的目标变化范围;

其中,所述第一氙瞬态选取原则包括所述目标轴向功率偏差位于所述目标变化范围内,且所述目标轴向功率偏差距所述目标变化范围的最大值的长度与所述目标变化范围的长度比值为预设阈值。

5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据瞬态过程的类型和所述目标轴向功率偏差,从所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围中,确定目标轴向功率偏差对应的目标变化范围,包括:

若所述瞬态过程的类型为轴向功率偏差越来越大的瞬态,则根据所述目标轴向功率偏差和预设的第二氙瞬态选取原则,从所述氙瞬态数据库的升组氙策略中,确定所述目标轴向功率偏差对应的目标变化范围;

其中,所述第二氙瞬态选取原则包括所述目标轴向功率偏差位于所述目标变化范围内,且所述目标轴向功率偏差距所述目标变化范围的最小值的长度与所述目标变化范围的长度比值为预设阈值。

6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征在于,所述预设阈值为1/3-2/3。

7.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据目标轴向功率偏差从所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围中,确定目标轴向功率偏差对应的目标变化范围,包括:

若所述目标轴向功率偏差均位于所述氙瞬态数据库的各个轴向功率偏差的变化范围之外,则获取所述目标轴向功率偏差与各所述变化范围的极值之间的差值;

将所述差值绝对值最小的变化范围确定为所述目标轴向功率偏差对应的目标变化范围。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,若存在多个所述目标初扰态氙策略,所述根据所述目标终态氙策略和目标初扰态氙策略确定目标氙策略,包括:

根据所述目标终态氙策略和棒位最深的目标初扰态氙策略确定所述目标氙策略。

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