[发明专利]一种辐射剂量仪校准装置、系统及方法在审

专利信息
申请号: 202111404686.7 申请日: 2021-11-24
公开(公告)号: CN114063143A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 高飞;王菲菲;刘蕴韬;王子琳;陈义珍;倪宁;张昕宇;刘佳瑞 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 陈煌辉;张颖玲
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 剂量 校准 装置 系统 方法
【说明书】:

本申请实施例公开了一种辐射剂量仪校准装置、系统及方法,涉及仪器校准技术领域,解决了相关技术中校准环境复杂,干扰难以排除的问题。该辐射剂量仪校准装置,包括射线照射仪和屏蔽箱,射线照射仪用于产生参考辐射;屏蔽箱用于隔离辐射,屏蔽箱密封设置,其一侧开有入射口,入射口与射线照射仪的出射口密封对接,以使射线照射仪发出的射束进入屏蔽箱内;屏蔽箱上开有探入孔,用于使被校准仪表伸入屏蔽箱内,被校准仪表与探入孔处密封连接,被校准仪表的探头位于射线照射仪发出的射束中心轴线上。本申请的辐射剂量仪校准装置对辐射剂量仪表进行校准。

技术领域

本申请实施例涉及但不限于仪器校准领域,尤其涉及一种辐射剂量仪校准装置、系统及方法。

背景技术

γ射线和X射线剂量率仪表在电离辐射防护中起着至关重要的作用,为了确保电离辐射剂量评价的准确性,需要定期对仪表进行校准。

仪表校准过程时,需要放置在参考辐射场,参考辐射场中的放射线会与校准现场的环境发生交互,由于现场环境的不确定性,产生的干扰难以消除,因此对校准结果产生不利影响,同时外漏的参考辐射场也极易对现场操作人员造成伤害。

发明内容

本申请实施例提供辐射剂量仪校准装置,便于排除环境干扰,提高校准精度。

第一方面,本申请实施例提供一种辐射剂量仪校准装置,包括射线照射仪和屏蔽箱,射线照射仪用于产生参考辐射;屏蔽箱用于隔离辐射,屏蔽箱密封设置,其一侧开有入射口,入射口与射线照射仪的出射口密封对接,以使射线照射仪发出的射束进入屏蔽箱内;屏蔽箱上开有探入孔,用于使被校准仪表伸入屏蔽箱内,被校准仪表与探入孔处密封连接,被校准仪表的探头位于射线照射仪发出的射束中心轴线上。

本申请实施例提供的辐射剂量仪校准装置,由于将射线照射仪的出射口与屏蔽箱的入射口密封对接,射线照射仪产生的射束会进入屏蔽箱内,并在屏蔽箱中建立起参考辐射场,将被校准仪表由探入孔密封伸入屏蔽箱内,并使被校准仪表的探头位于射线照射仪发出的射束的中心轴线上,便可依据被校准仪表探头所处参考点的辐射剂量率对被校准仪表进行校准,由于屏蔽箱内部的环境相对确定,环境干扰易于排除,从而使校准结果更加精准,同时由于屏蔽箱的存在,参考辐射场被限制在屏蔽箱内部,难以对外界操作人员造成伤害,提高了本装置使用的安全性,相较于相关产品中仅使用射线照射仪的方案,本申请的辐射剂量仪校准装置能够方便排除环境干扰,提高校准精度,并保护操作者的人生安全。

在本申请的一种可能的实现方式中,屏蔽箱的箱壁包括由防辐射材料制成的屏蔽层,屏蔽层用于隔离辐射。

本申请实施例提供的辐射剂量仪校准装置,屏蔽箱的隔离辐射功能主要由防辐射材料制成的屏蔽层完成,防辐射材料可以为铅、含硼聚乙烯等,优选的采用铅,铅对X射线、γ射线均有良好的防护性能,且可塑性好,易于制成所需的形状。

在本申请的一种可能的实现方式中,屏蔽箱的箱壁还包括分别位于屏蔽层的两侧的支撑层,支撑层用于保持屏蔽层的形态。

本申请实施例提供的辐射剂量仪校准装置,为了使屏蔽层能保持固定形态,通过在屏蔽层的两侧设置支撑层,从而减少屏蔽层因受外力产生的变形,同时支撑层还能减少屏蔽层与外界的接触,从而避免屏蔽层被腐蚀,减缓屏蔽层的老化,提高本申请装置的寿命。

在本申请的一种可能的实现方式中,探入孔的轴线沿垂直于射线照射仪发出的射束中心轴线方向设置。

本申请实施例提供的辐射剂量仪校准装置,为了更方便被校准仪表探头到达射束中心轴线,将探入孔的轴线与射束中心轴线垂直设置,使得探入孔与被校准仪表探头参考点的距离最近,被校准仪表的探头能够快速放置到参考点处。

在本申请的一种可能的实现方式中,屏蔽箱外部对应探入孔处固定有定位件,定位件用于将被校准仪表进行固定。

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