[发明专利]一种基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法

说明书

本发明公开了一种基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法，包括主体支撑机构、磁感动力式旋转充气型轴承内圈自调节抛光机构、自清理式循环过滤型轴承内圈打磨抛光液输送机构、资源利用型抛光液急速冷却降温机构、抛光液杂质过滤伸缩清理机构和多规格轴承气动夹持定位机构，所述主体支撑机构包括底板、承载架、底座、储液箱和固定板。本发明属于抛光装置技术领域，具体是指一种基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法；本发明提供了一种对轴承内圈抛光稳定、抛光均匀，能够对不同规格型号的轴承进行加工，且可以对抛光液进行循环利用的基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法。

技术领域

本发明属于抛光装置技术领域，具体是指一种基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法。

背景技术

轴承是当代机械设备中一种重要零部件。它的主要功能是支撑机械旋转体，降低其运动过程中的摩擦系数，并保证其回转精度。

目前现有的轴承内圈抛光装置存在以下几点问题：

1、轴承内圈在抛光加工过程中，需要用到抛光磨片进行磨削，而磨片磨削会产生加大的作用力，使得轴承晃动或者震动，影响抛光；磨片进行抛光转动磨削时，会产生旋转力，使得轴承具有向四周外壁侧滑的趋势，进而造成轴承出现位移，使得抛光精度降低；

2、现有的轴承内圈抛光装置对轴承内圈抛光不够均匀，且不能对不同规格的轴承的内圈进行抛光；

3、现有的轴承内圈抛光装置不能对使用后的抛光液进行循环利用，导致资源在一定程度上的浪费。

发明内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本方案提供一种基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法，针对轴承内圈抛光不均匀、轴承加工易发生偏移和轴承抛光时不能对抛光液进行收集循环利用的问题，创造性的将动态特性原理（自动调节物体，使其在各动作、阶段的性能最佳）和磁感结构相结合，通过设置的磁感动力式旋转充气型轴承内圈自调节抛光机构，实现了对不同规格轴承内圈的均匀抛光，并且通过抛光气囊和抛光砂纸的完美结合，在一定程度上克服了现有抛光装置对轴承内圈加工时对轴承造成的晃动或者震动，通过采用的自适应抛光结构，解决了磨片磨削产生的加大作用力，使轴承在加工时出现位移，使得抛光精度降低的问题；本发明同时采用循环理念设置的自清理式循环过滤型轴承内圈打磨抛光液输送机构，实现了对轴承加工时所使用的抛光液的循环过滤利用，创造性的将液体冲击转动结构应用到抛光装置技术领域，解决了现有技术难以解决的既要使用过滤板对抛光液中的杂质进行过滤（使用过滤板过滤快捷、方便、效率高），又不要使用过滤板对抛光液中的杂质进行过滤（过滤板在使用过程中易阻塞，降低抛光液过滤效率）的矛盾技术问题；提供了一种对轴承内圈抛光稳定、抛光均匀，能够对不同规格型号的轴承进行加工，且可以对抛光液进行循环利用的基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置及其使用方法。

本方案采取的技术方案如下：本方案提出的一种基于气体介质填充的轴承内圈抛光装置，包括主体支撑机构、磁感动力式旋转充气型轴承内圈自调节抛光机构、自清理式循环过滤型轴承内圈打磨抛光液输送机构、资源利用型抛光液急速冷却降温机构、抛光液杂质过滤伸缩清理机构和多规格轴承气动夹持定位机构，所述主体支撑机构包括底板、承载架、底座、储液箱和固定板，所述承载架设于底板上壁的中间位置，所述底座设于承载架两侧内壁之间的底板上壁，所述储液箱设于底座上壁，储液箱为上端开口的腔体，所述固定板设于储液箱一侧的底座上壁，所述磁感动力式旋转充气型轴承内圈自调节抛光机构设于承载架上壁，磁感动力式旋转充气型轴承内圈自调节抛光机构通过延展性较强的气囊对轴承内圈进行自适应抛光，所述自清理式循环过滤型轴承内圈打磨抛光液输送机构设于固定板远离储液箱的一侧，自清理式循环过滤型轴承内圈打磨抛光液输送机构通过液体流动力对抛光液进行搅拌，从而使抛光液中的杂质充分的过滤，所述资源利用型抛光液急速冷却降温机构设于储液箱侧壁，所述抛光液杂质过滤伸缩清理机构设于储液箱底部，所述多规格轴承气动夹持定位机构设于承载架内壁。