[发明专利]偏光片、偏光片制备方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111413430.2 申请日: 2021-11-25
公开(公告)号: CN114114515A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 李明阳;林仲宏 申请(专利权)人: 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14;B26F1/16;B23K26/382;B23K26/402
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 芶雅灵
地址: 611730 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏光 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明涉及一种偏光片、偏光片制备方法及显示装置,其中,偏光片包括偏光层、第一保护层以及第二保护层,第一保护层和第二保护层分设于偏光层的相对两侧,偏光层上设有透光孔,第一保护层在偏光层上的正投影以及第二保护层在偏光层上的正投影均覆盖透光孔。该偏光片能够解决传统偏光片需要在对应感光器件的位置钻孔以实现局部消偏光,容易导致偏光片的孔洞边缘破裂,并导致偏光片的保护层被破坏的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种偏光片、偏光片制备方法及显示装置。

背景技术

传统的显示屏,通常将红外感应器、环境光感应器以及摄像头等感光器件设置在边框区,但随着全面屏全面推广,边框区越来越窄,没有足够的空间设置感光器件,因此需要将感光器件设置在显示区内部,使得偏光片也需要对应感光器件的位置钻孔,以做局部消偏光处理,而偏光片通常具有质地较脆的保护层,在钻孔的过程中容易使孔洞边缘破裂,且钻孔破坏了保护层,会削弱其保护作用。

发明内容

基于此,有必要针对传统偏光片需要在对应感光器件的位置钻孔以实现局部消偏光,容易导致偏光片的孔洞边缘破裂,并导致偏光片的保护层被破坏的问题,提供一种偏光片、偏光片制备方法及显示装置。

一种偏光片,包括:偏光层;以及第一保护层和第二保护层,分设于所述偏光层的相对两侧;所述偏光层上设有透光孔,所述第一保护层在所述偏光层上的正投影以及所述第二保护层在所述偏光层上的正投影均覆盖所述透光孔。

在本发明一实施例中,所述透光孔内设有透明填充层。

在本发明一实施例中,所述透明填充层的厚度小于或等于所述偏光层的厚度。

在本发明一实施例中,所述偏光层与所述第一保护层之间设有第一胶黏层,所述透明填充层的材质与所述第一胶黏层的材质相同;和/或所述偏光层与所述第二保护层之间设有第二胶黏层,所述透明填充层的材质与所述第二胶黏层的材质相同。

在本发明一实施例中,所述偏光片上对应所述透光孔的区域的透光率大于或等于80%。

一种偏光片的制备方法,所述方法包括以下步骤:

提供偏光层,在所述偏光层上设置透光孔;

在所述偏光层的相对两侧分别贴设第一保护层和第二保护层,并使所述第一保护层在所述偏光层上的正投影以及所述第二保护层在所述偏光层上的正投影均覆盖所述透光孔。

在本发明一实施例中,所述在所述偏光层上设置透光孔的步骤具体包括:

在所述偏光层的相对两侧设置掩膜版;其中,所述掩膜版上设有开口;

通过所述开口对所述偏光层钻孔,以形成所述透光孔。

在本发明一实施例中,所述方法还包括以下步骤:

在所述透光孔内填充透明填充材料,以在所述透光孔内形成透明填充层。

在本发明一实施例中,所述在所述偏光层的相对两侧分别贴设第一保护层和第二保护层的步骤具体包括:

在所述偏光层与所述第一保护层之间设置第一胶黏层,利用第一胶黏层将所述第一保护层贴合于所述偏光层的一侧;和/或

在所述偏光层与所述第二保护层之间设置第二胶黏层,利用第二胶黏层将所述第二保护层贴合于所述偏光层的相对另一侧。

在本发明一实施例中,所述第一胶黏层和所述第二胶黏层为透明胶黏层;

所述在所述透光孔内填充透明填充材料,以在所述透光孔内形成透明填充层的步骤具体包括:

将所述第一胶黏层和/或所述第二胶黏层的一部分材料挤压至所述透光孔内形成透明填充层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司,未经业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111413430.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top