[发明专利]一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法

权利要求书

1.一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于，包括以下步骤：

设定单层薄膜；

设定所述单层薄膜的目标工艺参数A；

设置所述目标工艺参数A的值A₁,A₂......A_n，其中，A₁＜A₂＜A₃……＜A_n；

以设定规则对所述目标工艺参数A进行排序；

按排序后的所述目标工艺参数A的顺序依次在光学基底上制备具有对应所述目标工艺参数A的值的所述单层薄膜，每层所述单层薄膜的其它工艺参数不变，获得分层光学薄膜；

获取所述分层光学薄膜的目标光谱；

构建所述分层光学薄膜的物理模型，每层所述单层薄膜具有相同的光学常数模型，所述光学常数模型为折射率模型；

以所述目标光谱为目标函数，对所述物理模型的每层所述单层薄膜的光学常数进行拟合；

计算获得所述单层薄膜的光学常数；

获得所述光学常数和所述目标工艺参数A的相关性。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述工艺参数A的值排序的设定规则如下：

当n为偶数时，按如下方式排列：

当n为奇数时，按如下方法排列：

3.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述目标光谱包括透射光谱、反射光谱及椭圆偏振光谱，拟合时选择其中一种或者多种光谱作为拟合目标。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述单层薄膜通过电子束蒸发技术制备。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述折射率模型采用Cauchy模型，所述Cauchy模型见如下公式：

其中，r为折射率，B_n、C_n、D_n为拟合参数，λ为波长，k为消光系数。

6.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：拟合的评价函数见如下公式：

其中，N为测量波长的数目，M为变量个数，T_i^exp为i个波长的测量值，T_i^mod为i个波长的计算值，为i个波长的测量误差。