[发明专利]一种纳米材料去除底泥中抗生素抗性基因的方法有效
申请号: | 202111421081.9 | 申请日: | 2021-11-26 |
公开(公告)号: | CN114014506B | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
发明(设计)人: | 罗玲;邓达行;赵鑫;胡海容;李欣怡;邓欧平;兰婷 | 申请(专利权)人: | 四川农业大学 |
主分类号: | C02F11/00 | 分类号: | C02F11/00 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 吕玲 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 材料 去除 底泥中 抗生素 抗性 基因 方法 | ||
1.一种利用纳米材料去除底泥中抗生素抗性基因的方法,其特征在于包括以下步骤:将金属纳米材料与底泥混合均匀,采用四环素溶液进行密封,进行室温培养1-28天;其中金属纳米材料在底泥中的浓度范围为0.0035-0.035 mmol kg-1;所述的金属纳米材料为纳米零价铁和纳米氧化锌中的任意一种;所述抗性基因的宿主细菌为
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:四环素溶液的浓度为10 mg/L。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于:在添加四环素的情况下,纳米材料能降低抗生素对抗性基因的诱导作用。
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