[发明专利]表面清洁设备

权利要求书

1.一种表面清洁设备，其特征在于，包括：

基座壳体，被构造为能够在待清洁表面上移动；

至少一个垫旋转组件，分别可绕一旋转轴心线旋转地布置在所述基座壳体的底部并且被构造为在所述表面清洁设备的作业过程中擦洗待清洁表面，各个所述的垫旋转组件包括垫保持器和能够附着在所述垫保持器上的清洁垫；

流体供应系统，用于储存和供应清洁用流体，所述的流体供应系统包括流体供应容器和用于将所述流体供应容器内的流体分配到所述的清洁垫与/或待清洁表面的流体分配器；以及

垫清洁器，安装至所述基座壳体，并且被构造为用于对被污染的所述清洁垫进行清洁；所述的垫清洁器布置在所述的至少一个垫旋转组件的旋转路径上，以便所述的至少一个垫旋转组件在旋转期间能够经过所述的垫清洁器并实现对各个所述的清洁垫进行清洁。

2.根据权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的垫清洁器包括：至少一组刮擦部件；所述的至少一组刮擦部件位于所述清洁垫的下侧，并且适于与各个所述清洁垫的底表面接触，以从各个所述的清洁垫上去除污物与/或多余液体。

3.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的垫保持器被配置成能够在所述表面清洁设备的作业过程中使所述清洁垫的底表面保持至少部分与待清洁表面接触、同时至少部分与相应所述刮擦部件相接触的姿态。

4.根据权利要求3所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的垫保持器包括可变形的柔性转盘，所述的清洁垫附接于所述的柔性转盘上。

5.根据权利要求3所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的垫保持器包括：上下相对布置的上转盘和下转盘，所述的清洁垫附接于所述的下转盘上；其中，所述的下转盘包括多块盘体，各块所述的盘体均连接于所述的上转盘且能够相对于所述上转盘上下活动。

6.根据权利要求5所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的上转盘和下转盘之间设置有若干弹性变形件。

7.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其特征在于，各组所述的刮擦部件包括至少一根刮液条。

8.根据权利要求7所述的表面清洁设备，其特征在于，各组所述的刮擦部件还包括凸柱阵列与/或刷毛簇阵列。

9.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的垫清洁器还包括：腔室；至少部分所述的腔室位于所述至少一组刮擦部件的下侧，以便盛接各组所述刮擦部件从各个所述清洁垫上去除的所述污物与/或多余液体。

10.根据权利要求9所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的表面清洁设备还包括：脏污回收容器和流体转移装置，所述的流体转移装置被构造为用于将来自所述腔室内的液体转移至所述的脏污回收容器中。

11.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的流体转移装置包括抽吸电机，所述的表面清洁设备还包括至少一个吸口和抽吸通道，所述的至少一个吸口布置在所述基座壳体的底部并且面向待清洁表面，所述的抽吸通道布置在所述的至少一个吸口与所述的脏污回收容器之间；其中，所述的腔室与所述的抽吸通道流体接通。

12.根据权利要求11所述的表面清洁设备，其特征在于，至少一个所述的吸口位于所述的至少一个垫旋转组件的前侧。

13.根据权利要求11所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的表面清洁设备还包括：吸嘴，所述的吸嘴与所述的抽吸通道接通，所述的吸嘴与所述的腔室对接。

14.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，所述的流体转移装置包括一流体泵。