[发明专利]一种测量绝对反射率谱的装置及方法

权利要求书

1.一种测量绝对反射率谱的方法，其特征在于，该方法使用的装置包括：光源（1）、双凸透镜（2）、立方腔、光纤探头（8）、光谱仪（9）和计算机（10）；所述的立方腔包括腔体（6）和顶盖板（5），腔体（6）的相邻两个侧壁分别开有入光孔（3）和出光孔（7），顶盖板（5）活动可拆卸；

光源（1）发射的光经过双凸透镜（2）汇聚后通过入光孔（3）进入立方腔的腔体（6）内，光在腔体（6）内经过漫反射从出光孔（7）射出，射出后出射光被光纤探头（8）接收，然后传输给光谱仪（9），经光谱仪（9）分光后的光谱数据传输给计算机（10）；

该方法包括以下步骤：

步骤一，将光源（1）发射的光经过双凸透镜（2）汇聚后通过入光孔（3）进入立方腔的腔体（6）内；

步骤二，光在腔体（6）内经过漫反射从出光孔（7）射出，射出后出射光被光纤探头（8）接收，然后传输给光谱仪（9），经光谱仪（9）分光后的光谱数据传输给计算机（10）；

步骤三，移动顶盖板（5）与腔体（6）的开口，改变附加开口比，重复步骤一和步骤二的操作，记录下多组光谱数据；

步骤四，计算在波长处的漫反射率；

所述的步骤四中波长处的漫反射率的计算公式：

(1)

式中为附加开孔比，I()为附加开孔比为0时从出射孔出射的光强；I’()为附加开孔比为时从出射孔出射的光强；为漫反射立方腔的原始开孔比；

其中附加开孔比的计算公式如下：

(2)

式中x为移动顶盖板（5）与腔体（6）的开口长度，L为腔体（6）的边长。

2.根据权利要求1所述的一种测量绝对反射率谱的方法，其特征在于，所述的光源（1）为非相干宽带光源，光源（1）的功率范围为100-150W。

3.根据权利要求2所述的一种测量绝对反射率谱的方法，其特征在于，所述的光源（1）为卤钨灯。

4.根据权利要求1所述的一种测量绝对反射率谱的方法，其特征在于，所述的双凸透镜（2）由JGS1的石英制成。

5.根据权利要求1所述的一种测量绝对反射率谱的方法，其特征在于，所述的L为6~12cm。

6.根据权利要求1所述的一种测量绝对反射率谱的方法，其特征在于，所述的为0~0.0833。