[发明专利]拂磨垫片接触面积的测量方法、系统、介质及终端在审
申请号: | 202111434699.9 | 申请日: | 2021-11-29 |
公开(公告)号: | CN114119711A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 张政;赵梓安;李雪剑;张斌;刘邦宇;夏永朋;周南阳 | 申请(专利权)人: | 江南造船(集团)有限责任公司 |
主分类号: | G06T7/62 | 分类号: | G06T7/62;G06T7/13;G06T7/168;G06T7/194;G06T5/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 赵诗雨 |
地址: | 201913 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 垫片 接触 面积 测量方法 系统 介质 终端 | ||
1.一种拂磨垫片接触面积的测量方法,其特征在于,包括以下步骤:
获取与设备接触后的拂磨垫片的目标图像;所述设备上涂有有色油;
处理所述目标图像,获取二值化后的图像;所述二值化后的图像中包括目标区域和背景区域;其中,所述目标区域对应所述拂磨垫片与所述设备接触后的接触面;所述背景区域对应所述拂磨垫片与所述设备接触后的非接触面;
基于所述二值化后的图像计算所述目标区域的面积。
2.根据权利要求1所述的拂磨垫片接触面积的测量方法,其特征在于,所述处理所述目标图像,获取二值化后的图像包括以下步骤:
对所述目标图像进行去噪处理,获取去噪后的图像;
二值化处理所述去噪后的图像,获取所述二值化后的图像。
3.根据权利要求2所述的拂磨垫片接触面积的测量方法,其特征在于,所述对所述目标图像进行去噪处理,获取去噪后的图像包括以下步骤:
对所述目标图像进行灰度化处理,获取灰度化后的图像;
对所述灰度化后的图像进行中值滤波处理,获取所述去噪后的图像。
4.根据权利要求1所述的拂磨垫片接触面积的测量方法,其特征在于,所述基于所述二值化后的图像计算所述目标区域的面积包括以下步骤:
复原所述二值化后的图像,获取矫正图像;
基于所述矫正图像计算所述目标区域的面积。
5.根据权利要求4所述的拂磨垫片接触面积的测量方法,其特征在于,所述复原所述二值化后的图像,获取矫正图像包括以下步骤:
对所述二值化后的图像进行边缘检测,获取二值边缘图像;
将所述二值化后的图像中的非零像素点对应的笛卡尔坐标转换为极坐标系下的极坐标;
将所述极坐标转换为霍夫空间下的曲线;
将所述霍夫空间下曲线相交次数最多的点还原至笛卡尔坐标系上,确定所述二值化后的图像的边缘线;
基于所述边缘线的角度调整所述二值化后的图像,获取所述矫正图像。
6.根据权利要求1所述的拂磨垫片接触面积的测量方法,其特征在于,所述基于所述二值化后的图像计算所述目标区域的面积包括以下步骤:
对所述二值化后的图像进行矩阵化;
基于矩阵化结果计算所述目标区域的面积。
7.一种拂磨垫片接触面积的测量系统,其特征在于,包括:获取模块、处理模块及计算模块;
所述获取模块用于获取与设备接触后的拂磨垫片的目标图像;所述设备上涂有有色油;
所述处理模块用于处理所述目标图像,获取二值化后的图像;所述二值化后的图像中包括目标区域和背景区域;其中,所述目标区域对应所述拂磨垫片与所述设备接触后的接触面;所述背景区域对应所述拂磨垫片与所述设备接触后的非接触面;
所述计算模块用于基于所述二值化后的图像计算所述目标区域的面积。
8.一种存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至6中任一项所述的拂磨垫片接触面积的测量方法。
9.一种终端,其特征在于,包括:处理器及存储器;
所述存储器用于存储计算机程序;
所述处理器用于执行所述存储器存储的计算机程序,以使所述终端执行权利要求1至6中任一项所述的拂磨垫片接触面积的测量方法。
10.一种拂磨垫片接触面积的测量系统,其特征在于,包括:图像采集设备及权利要求9中所述的终端;
所述图像采集设备与所述终端连接,用于采集与设备接触后的拂磨垫片的目标图像,并将所述目标图像发送至所述终端。
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