[发明专利]一种沉积均匀的磁控管及其设计方法在审
申请号: | 202111438395.X | 申请日: | 2021-11-30 |
公开(公告)号: | CN114218625A | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 唐云俊;王昱翔 | 申请(专利权)人: | 浙江艾微普科技有限公司 |
主分类号: | G06F30/10 | 分类号: | G06F30/10;G06F30/20;G06F17/18;C23C14/35 |
代理公司: | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人: | 王大国 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 均匀 磁控管 及其 设计 方法 | ||
1.一种沉积均匀的磁控管,其特征在于:包括外磁极磁铁和内磁极磁铁,且外磁极磁铁和内磁极磁铁磁极性相反,外磁极磁铁和内磁极磁铁构成闭合环,此闭合环形成等离子体轨道,所述等离子体轨道中心线的长度L分布随靶材中心距离(x)的变化为L=axn,其中a是任意常数,n是变量,所述n值由公式
拟合计算获得。
2.根据权利要求1所述的沉积均匀的磁控管,其特征在于:所述等离子体轨道接近或通过靶材中心,且其旋转扫过除靶材边缘外的大部分靶材表面。
3.根据权利要求2所述的沉积均匀的磁控管,其特征在于:所述等离子体轨道旋转扫过位置距靶材边缘的距离为0-5mm。
4.一种沉积均匀的磁控管的设计方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1:确定靶材、晶圆的大小,以及所需要的理想的靶材和晶圆之间的距离的大小;
S2:通过公式
拟合计算,确定所需要的L=axn公式中的n值;
S3:构建一个由内外磁极磁铁构成的闭合环,将靶材分成若干同心圆,并计算相邻同心圆间等离子体轨道中心线的长度;并通过调试闭合环的分布,使得该闭合环所形成的等离子体轨道的中心线的长度L分布随靶材中心距离(x)的变化满足:L≈axn。
5.根据权利要求4所述的沉积均匀的磁控管的设计方法,其特征在于:在步骤S3中,所述的闭合环的中心线的中心接近或经过靶材中心。
6.根据权利要求5所述的沉积均匀的磁控管的设计方法,其特征在于:在步骤S3中,构建所述的闭合环时,将靶材分成5-10个同心圆。
7.根据权利要求6所述的沉积均匀的磁控管的设计方法,其特征在于:在步骤S3中,构建所述的闭合环时,采用软件进行自动计算相邻同心圆间等离子体轨道中心线的长度。
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