[发明专利]溶剂组合物、清洗方法、涂膜的形成方法、热传导介质和热循环系统在审
申请号: | 202111443261.7 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN114106944A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 光冈宏明;三木寿夫;中村允彦;村田真理;冈本秀一;藤森厚史 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | C11D7/50 | 分类号: | C11D7/50;B08B3/08;C09K5/08;C09D7/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张佳鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溶剂 组合 清洗 方法 形成 热传导 介质 循环系统 | ||
1.溶剂组合物,其特征在于,含有1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯和包含不饱和烃的稳定剂,
所述不饱和烃是选自1-戊烯、2-戊烯、2-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-丁烯、2-甲基-2-丁烯、1-己烯、2-己烯、3-己烯、2-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯、2-乙基-1-丁烯、3-乙基-1-丁烯、3-乙基-2-丁烯、2-甲基-2-戊烯、3-甲基-2-戊烯、4-甲基-2-戊烯、2,3-二甲基-2-丁烯、1-庚烯、2-庚烯、3-庚烯、4-庚烯、3-乙基-2-戊烯、1-辛烯、2,4,4-三甲基-1-戊烯、2,4,4-三甲基-2-戊烯、1-壬烯、丁二烯、异戊二烯、己二烯、庚二烯、辛二烯、环己烯、环己二烯、环庚烯、环庚二烯、环辛烯、环辛二烯中的至少1种。
2.如权利要求1所述的溶剂组合物,其特征在于,所述溶剂组合物100质量%中的所述稳定剂的含量为1质量ppm~10质量%。
3.如权利要求1或2所述的溶剂组合物,其特征在于,所述溶剂组合物100质量%中的所述1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯的含量在80质量%以上。
4.如权利要求1或2所述的溶剂组合物,其特征在于,所述1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯是1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯的Z异构体和1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯的E异构体的混合体,
相对于所述1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯的Z异构体和所述1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯的E异构体的总量,1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯的Z异构体的含有比例在80质量%以上且低于100质量%。
5.如权利要求1所述的溶剂组合物,其特征在于,所述稳定剂的沸点为30~120℃。
6.清洗方法,其特征在于,使用权利要求1所述的溶剂组合物来清洗被清洗物。
7.如权利要求6所述的清洗方法,其特征在于,被清洗物是选自纤维制品、医疗器具、电气设备、精密机械、光学物品中的至少1种。
8.涂膜的形成方法,其特征在于,在权利要求1所述的溶剂组合物中溶解不挥发性物质,将所得的不挥发性物质的组合物涂布于被涂布物上,使所述溶剂组合物蒸发,形成以所述不挥发性物质为主成分的涂膜。
9.热传导介质,其特征在于,含有权利要求1所述的溶剂组合物。
10.热循环系统,其特征在于,使用了权利要求9所述的热传导介质。
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