[发明专利]一种负载型催化剂及其制备方法有效
申请号: | 202111443417.1 | 申请日: | 2021-11-30 |
公开(公告)号: | CN113996298B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 吕学谦;闵中龙;王文;张吉武;范协诚;银波 | 申请(专利权)人: | 新特能源股份有限公司 |
主分类号: | B01J23/72 | 分类号: | B01J23/72;B01J23/83;B01J35/02;B01J35/10;C01B33/107 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 廖叶子 |
地址: | 831500 新疆维吾尔自治区乌鲁木*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 负载 催化剂 及其 制备 方法 | ||
本发明提供一种负载型催化剂及其制备方法,所述催化剂包括:载体、活性组分、硅基添加剂和铜合金;其中,所述活性组分包括氯化亚铜、硫酸亚铜、氧化亚铜中的至少一种;所述铜合金中的合金元素包括铈、钇、镧、钛、硼、锆中的至少一种。本发明中提供的催化剂的粒径可控、孔隙率高、比表面积大;催化剂中的硅基添加剂直接与活性组分接触,可以大幅延长硅元素与活性组分的互扩散时间,提高活性硅铜相的收率;催化剂中添加了铜合金,其有利于形成细晶硅铜相,抑制晶粒的长大,增加硅铜相晶界缺陷中心,同时还可形成多元含硅金属间化合物,从而可以强化对四氯化硅吸附,提高四氯化硅催化转化效率。
技术领域
本发明涉及多晶硅生产技术领域,具体涉及一种负载型催化剂及其制备方法。
背景技术
多晶硅是光伏及半导体行业的基础材料,全球75~80%的多晶硅采用改良西门子法生产,在生产过程中会产生大量的四氯化硅(STC)和氯化氢副产物,而四氯化硅具有高污染性,无法直接排放,目前行业实现四氯化硅回收再利用的方法是利用氯氢化(即冷氢化)反应,使四氯化硅催化转换为三氯氢硅,经精馏提纯后回收再利用。其中,催化剂是决定氢氯化转化率的最关键因素。
目前国内多晶硅厂家所采用的四氯化硅(STC)冷氢化工艺是在流化床反应器中进行,在众多催化剂中,铜系催化剂是一种效率高、成本低的一类催化剂。由于一价铜与硅和/或氢的反应条件较二价铜温和,反应温度较低,所以选用一价的氯化亚铜(CuCl)作为催化剂。在氢氯化过程中,流化床中的氯化亚铜与硅粉碰撞,发生反应,原位生成硅铜相催化活性体;硅铜相活性体吸附四氯化硅,形成二氯硅烯中间体,二氯硅烯中间体与氢气和氯化氢反应,形成三氯氢硅。
然而,氯化亚铜催化剂在使用过程中存在以下问题:(1)在流化床反应器中,氯化亚铜粒径逐步减小,受流化床过滤系统限制,尺寸细小的氯化亚铜不能完全利用而流入后端系统,被遗弃作为废物处理,造成很大浪费;(2)催化反应过程中,氯化亚铜与硅粉通过碰撞接触,接触时间短,氯化亚铜扩散、反应不充分,也造成氯化亚铜不必要的浪费;(3)氯化亚铜在储存、氧化过程中易氧化,形成二价铜,造成催化活性降低。
近年来,行业开发了以分子筛、二氧化硅、三氧化二铝等为载体,负载一价铜离子制备的负载型催化剂,与单纯的氯化亚铜催化剂相比,负载型催化剂中氯化亚铜的单耗明显降低。但是在流化床中,该催化剂依然仅有表面的一价铜离子与硅粉碰撞、接触、反应,催化剂体内有效成分无法与硅粉接触,且负载型催化剂与硅粉的有效接触面积小,扩散间距长,也造成催化剂利用率及催化活性较低,冷氢化渣浆中仍然含有大量未参加反应的铜离子。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种负载型催化剂及其制备方法,本发明中的催化剂能够有效地促进在氢氯化反应规程中,硅铜原子间的长程互扩散、反应,提高活性硅铜相产率。同时,铜合金的添加促进了催化剂中形成细晶结构、晶格缺陷中心及多元金属硅化物的形成,从而可以强化四氯化硅吸附,提高催化转化效率。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
第一方面,本发明提供了一种负载型催化剂,所述催化剂包括:
载体、活性组分、硅基添加剂和铜合金;其中,所述活性组分包括氯化亚铜、硫酸亚铜、氧化亚铜中的至少一种;所述铜合金中的合金元素包括铈、钇、镧、钛、硼、锆中的至少一种;
按质量分数计,所述载体的质量分数为80%~95%,所述活性组分的质量分数为5%~20%,所述硅基添加剂的质量分数为0.25%~1.5%,所述铜合金的质量分数为0.01%~0.5%。
进一步地,所述载体包括石英粉、刚玉粉、粉煤灰、煤矸石、粘土矿物中的至少一种;其中,所述粘土矿物选自硅藻土、高岭土、蒙脱土、坡缕石中的至少一种。
进一步地,所述硅基添加剂包括金属硅粉、细硅粉、硅微粉、单晶硅切割粉、碳化硅中的至少一种。
进一步地,所述催化剂粒径为0.1~5mm,和/或
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