[发明专利]显示装置和提供显示装置的方法在审
申请号: | 202111448901.3 | 申请日: | 2021-11-30 |
公开(公告)号: | CN114628450A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 金大弘;李鼎文 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L21/762 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 李子光 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 提供 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
显示区域,包括:
有机绝缘层,以及
发光元件,所述发光元件位于所述有机绝缘层上;以及
非显示区域,所述非显示区域在第一方向上与所述显示区域相邻,所述非显示区域包括:
第一坝,所述第一坝在所述第一方向上与所述有机绝缘层间隔开,以及
第一凹槽,所述第一凹槽在所述第一方向上位于所述有机绝缘层与所述第一坝之间。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,沿所述第一方向,所述第一凹槽与所述有机绝缘层和所述第一坝中的每一个间隔开。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,在所述非显示区域内:
在所述第一方向上与所述有机绝缘层间隔开的所述第一坝在所述有机绝缘层与所述第一坝之间限定第一开口,并且
所述第一凹槽对应于位于所述有机绝缘层与所述第一坝之间的所述第一开口。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,在所述非显示区域内,位于所述有机绝缘层与所述第一坝之间的所述第一开口在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,在所述非显示区域中的所述第一开口内,所述第一凹槽包括彼此间隔开的多个凹槽图案。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其中,所述多个凹槽图案沿所述第二方向排列。
7.根据权利要求4所述的显示装置,其中,在所述非显示区域内,所述第一凹槽具有条状形状。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,所述第一凹槽的所述条状形状沿所述第二方向延伸。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述非显示区域还包括在所述第一方向上与所述第一坝间隔开的第二坝。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其中,所述非显示区域还包括在所述第一方向上位于所述第一坝与所述第二坝之间的第二凹槽。
11.根据权利要求10所述的显示装置,其中,沿所述第一方向,所述第二凹槽与所述第一坝和所述第二坝中的每一个间隔开。
12.根据权利要求10所述的显示装置,其中,
与所述第一坝间隔开的所述第二坝在所述第一坝与所述第二坝之间限定第二开口,并且
所述第二凹槽对应于位于所述第一坝与所述第二坝之间的所述第二开口。
13.根据权利要求1所述的显示装置,还包括:
衬底和无机绝缘层,所述衬底和所述无机绝缘层位于所述显示区域中并且位于所述非显示区域中,并且
其中,所述衬底、所述无机绝缘层、所述有机绝缘层和所述发光元件按顺序位于所述显示区域中。
14.根据权利要求13所述的显示装置,其中,
所述衬底包括位于所述非显示区域中的限定所述非显示区域中的所述第一凹槽的侧表面和底表面,并且
所述无机绝缘层从所述显示区域延伸以覆盖所述衬底在所述第一凹槽处的所述侧表面和所述底表面。
15.根据权利要求13所述的显示装置,其中,
所述衬底包括位于所述非显示区域中的侧表面和底表面,
所述无机绝缘层包括位于所述非显示区域中的限定所述无机绝缘层中的孔的侧表面,
所述无机绝缘层中的所述孔将所述衬底暴露于所述无机绝缘层外部,并且
所述衬底的所述侧表面、所述衬底的所述底表面和所述无机绝缘层的所述侧表面一起限定所述第一凹槽。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的