[发明专利]多层导光件的制造方法和性能管控系统以及电子设备

权利要求书

1.一种多层导光件的制造方法，其特征在于，包括：

取至少两片导光片，将其中一片作为基准导光片进行固定，其余作为调试导光片平行于所述基准导光片进行固定，所述基准导光片和所述调试导光片形成模拟导光件；

将所述调试导光片相对于所述基准导光片进行多次偏转，并对每次偏转后的偏转角度和所述模拟导光件的光学参数进行测量，确定所述偏转角度与所述光学参数的对应关系，根据所述对应关系，获取在所述光学参数的预定阈值下，所述偏转角度的偏转阈值；

叠合至少两片所述导光片，使其中任意两片所述导光片相互之间的所述偏转角度在所述偏转阈值内，获得多层导光件。

2.根据权利要求1所述的多层导光件的制造方法，其特征在于，将所述调试导光片相对于所述基准导光片进行多次偏转，包括：

将所述调试导光片相对于所述基准导光片分别沿X方向和/或Y方向进行偏转；以及，将所述调试导光片分别在沿所述X方向和/或所述Y方向上进行多个幅度的偏转。

3.根据权利要求1所述的多层导光件的制造方法，其特征在于，对每次偏转后的偏转角度和所述模拟导光件的光学参数进行测量，包括：

在所述模拟导光件上沿X方向和/或Y方向上分别设定多个测量位置，在每次偏转所述调试导光片后，测量对应偏转方向上任意两个所述测量位置处，所述调试导光片与所述基准导光片之间的空气间隙厚度，以及两个所述测量位置之间的距离，根据测量结果，计算所述偏转角度。

4.根据权利要求3所述的多层导光件的制造方法，其特征在于，两个所述测量位置之间的距离为：两个所述测量位置投影在所述调试导光片上或投影在所述基准导光片上的距离。

5.根据权利要求3所述的多层导光件的制造方法，其特征在于，多个所述测量位置分布于所述模拟导光件的边缘处。

6.根据权利要求3所述的多层导光件的制造方法，还包括：在两个所述测量位置处分别设置一个厚度检测探头，实时测量所述空气间隙厚度，并测量两个所述厚度检测探头之间的距离。

7.根据权利要求1所述的多层导光件的制造方法，其特征在于，使所述偏转角度在所述偏转阈值内，包括：

在叠合至少两片所述导光片时，固定所述基准导光片的位置，并控制其余所述调试导光片相对于所述基准导光片的偏转角度落在所述偏转阈值内；以及，

在叠合至少两片所述导光片后，测量其中任意两片所述导光片互相之间的偏转角度，筛选出落入所述偏转阈值内的多层导光件。

8.一种多层导光件的性能管控系统，应用于权利要求1-7任意一项所述的制造方法，其特征在于，包括：

固定工装，所述固定工装用于固定所述模拟导光件和调整所述调试导光片的偏转角度；

光机，所述光机用于向所述模拟导光件投射测试图样；

相机，所述相机用于获取从所述模拟导光件射出的所述测试图样；

厚度测试仪，所述厚度测试仪包括多个厚度检测探头，所述厚度测试仪用于测量所述调试导光片相对于所述基准导光片之间的的空气间隙厚度；所述偏转角度通过所述空气间隙厚度和所述厚度检测探头之间的距离进行测算。

9.根据权利要求8所述的多层导光件的性能管控系统，其特征在于，所述固定工装包括：

底座和能够相对于所述底座偏转的偏转架，所述底座和偏转架均为中心处具有镂空区的框形结构，且所述框形结构上设置有多个吸气孔；

所述基准导光片通过多个所述吸气孔固定在所述底座上，所述调试导光片通过多个所述吸气孔固定在所述偏转架上，所述厚度测试仪设置于所述框形结构的镂空区域。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的多层导光件。