[发明专利]辐射单元、天线及基站

权利要求书

1.一种辐射单元，包括辐射部和为辐射部馈电的馈电部，其特征在于，所述辐射部包括辐射体与多个频率选择单元，所述频率选择单元与所述辐射体分别处于不同参考平面构成平行耦合关系，所述频率选择单元通过设置交叉镂空结构而将其分为具有缝隙耦合关系的多个副导体，相互缝隙耦合的两个副导体响应外部高频信号而激励出流向相反的两路电流。

2.如权利要求1所述的辐射单元，其特征在于，所述多个副导体在结构上互不相连，每个副导体的两侧设有构成所述交叉镂空结构的两个缝隙，副导体经该两个缝隙而分别与两个相邻的副导体构成缝隙耦合关系。

3.如权利要求1所述的辐射单元，其特征在于，所述辐射体对应所述频率选择单元于该辐射体所在参考平面的投影设有第一镂空结构，所述第一镂空结构的形状与所述频率选择单元的投影的外轮廓相对应。

4.如权利要求2所述的辐射单元，其特征在于，所述频率选择单元通过设置所述交叉镂空结构而形成四个副导体，该四个副导体关于所述频率选择单元的垂直于所述纵长轴线的中垂线呈对称结构。

5.如权利要求4所述的辐射单元，其特征在于，所述频率选择单元呈圆形、椭圆形及多边形中的任意一种。

6.如权利要求1所述的辐射单元，其特征在于，所述副导体内设有第二镂空结构，所述第二镂空结构的形状与其所在的副导体的形状相对应，以使所述副导体构成环状结构。

7.如权利要求1所述的辐射单元，其特征在于，所述多个频率选择单元按所述辐射体的布设轨迹依次设置。

8.如权利要求7所述的辐射单元，其特征在于，所述辐射体对应相邻两个频率选择单元之间的间隙空间于该辐射体上的投影设有第三镂空结构，该第二镂空结构的形状与所述间隙空间的投影的形状相对应。

9.如权利要求7所述的辐射单元，其特征在于，所述频率选择单元的横向宽度大于或等于所述辐射体的横向宽度，在辐射体所在参考平面的投影方向上，所述频率选择单元的投影与所述辐射体的投影完全重叠或部分重叠。

10.如权利要求1至9任意一项所述的辐射单元，其特征在于，所述辐射单元还包括介质板，所述辐射体与所述频率选择单元所在的参考平面分别设置于介质板的正反两面。

11.一种天线，包括反射板与辐射阵列，所述辐射阵列包括构成低频辐射阵列的低频辐射单元列与构成高频辐射单元阵列的高频辐射单元列，其特征在于，至少存在一个低频辐射单元列布设于多个高频辐射单元列之间，所述布设于多频高频辐射单元列之间的低频辐射单元为如权利要求1至10任意一项所述的辐射单元，在面向反射板的投影方向上，至少一个所述的低频辐射单元的投影完全或部分覆盖所述高频辐射单元列中与之相邻的多个高频辐射单元的投影。

12.一种基站，其特征在于，该基站配置有如权利要求11所述的天线，用于发射该基站通行的信号。