[发明专利]一种膜用均匀施胶装置在审

专利信息
申请号: 202111453349.7 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN114134755A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 温建敏 申请(专利权)人: 温建敏
主分类号: D21H23/52 分类号: D21H23/52
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325400 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 均匀 装置
【权利要求书】:

1.一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:包括两个两个平行且等高设置的输送轴,两个输送轴之间的上侧设有安装轴,所述的安装轴上安装有施胶舱,所述的施胶舱的下端设有出胶口,所述的施胶舱的下端低于输送轴的上端设置,安装轴的两端分别设有可转动的滚轮,滚轮的下端与施胶舱的下端等高设置,膜在滚轮和输送轴之间输送,所述的施胶舱的竖截面为V形结构,所述的施胶舱的下端为圆弧面,V形施胶舱的两侧面与水平面之间的夹角为45-65度。

2.根据权利要求1所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的施胶舱为沿安装轴长度方向设置的长条形结构,施胶舱为朝上开口设置,出胶口沿施胶舱的长度方向设置。

3.根据权利要求2所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的施胶舱的长度方向的两端的侧壁上分别设有连接孔,连接孔与安装轴滑动连接,所述的侧壁的外侧面上设有固定环,固定环与连接孔同轴设置,所述的安装轴上设有与固定环对应的固定块,固定块滑动套接在安装轴上,固定块与安装轴在周向上固定连接,固定块可进入固定环中并与固定环在周向上形成固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的施胶舱的内部的下端设有旋转条,旋转条对应所述的出胶口设置,旋转条的两端与施胶舱转动连接,所述的旋转条上设有密封面,所述的密封面能与出胶口配合来关闭出胶口,通过转动旋转条可在关闭和打开出胶口两个状态进行切换。

5.根据权利要求4所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的旋转条上设有用于驱动所述的旋转条转动的驱动臂。

6.根据权利要求5所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的驱动臂上设有磁铁,磁铁能分别与安装轴和施胶舱磁吸固定,磁铁与安装轴磁吸固定时,出胶口处于关闭状态,磁铁与施胶舱磁吸固定时,出胶口处于打开状态。

7.根据权利要求4所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的密封面为圆弧面。

8.根据权利要求3所述的一种膜用均匀施胶装置,其特征在于:所述的固定块的内侧面上设有凸出导向部,所述的安装轴上设有导向槽,导向部与导向槽滑动配合。

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