[发明专利]一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202111454042.9 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114196928A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 罗来马;徐云凤;吴玉程;徐跃 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 合肥信诚兆佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34159 | 代理人： | 邓勇 |
| 地址： | 230009 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 优异 等离子体 辐照 性能 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将预处理后RAFM钢与纯钨靶材安装在磁控溅射腔室内，将腔室内抽真空至2×10-4Pa，设定工作气压为2.0Pa，溅射功率为20-60W，磁控溅射60min，得到具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层。
2.根据权利要求1所述具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，其特征在于，所得具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层为典型的BCC结构。
3.根据权利要求1所述具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，其特征在于，所得具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层截面为致密的柱状晶结构。
4.根据权利要求1所述具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，其特征在于，所得具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层耐受离子通量为3.0×1021m-2·s-1，辐照剂量为5.3×1024m-2的氦离子辐照。
5.根据权利要求1所述具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，其特征在于，所得具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层厚度为3微米。
6.根据权利要求1所述具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，其特征在于，预处理的具体操作如下：将国产低活化CLAM钢经过淬火加回火的热处理工艺得到稳定的马氏体组织，然后依次经过120#、240#、320#、400#、500#、600#碳化硅砂纸逐级打磨并抛光至镜面，超声清洗并烘干后得到表面光洁平整的预处理后RAFM钢。
7.一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层，其特征在于，采用权利要求1-6任一项所述具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法制得。
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