[发明专利]制造部件承载件的方法和部件承载件在审
申请号: | 202111456273.3 | 申请日: | 2021-12-01 |
公开(公告)号: | CN116209165A | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
发明(设计)人: | 伊斯玛迪·宾·伊斯梅尔;郑惜金;张振熙 | 申请(专利权)人: | 奥特斯(中国)有限公司;奥特斯科技(重庆)有限公司 |
主分类号: | H05K3/18 | 分类号: | H05K3/18;H05K1/05 |
代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 杨媛 |
地址: | 201108 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 部件 承载 方法 | ||
1.一种制造部件承载件的方法,其中,所述方法包括:
用金属箔(104)对介电层结构(102)进行覆盖;
在所述金属箔(104)上形成非电镀金属层(108);以及
在所述非电镀金属层(108)上形成多级电镀结构(110)。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法包括:将用所述金属箔(104)覆盖的所述介电层结构(102)作为预形成的双层结构附接至基部(106)。
3.根据权利要求1或2的方法,其中,所述方法包括:通过化学工艺形成所述非电镀金属层(108)。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法,其中,所述方法包括:通过快速镀覆然后图案镀覆,形成所述多级电镀结构(110)。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的方法,其中,所述方法包括:对用所述金属箔(104)覆盖的所述介电层结构(102)进行图案化,特别地,对用所述金属箔(104)覆盖的所述介电层结构(102)进行图案化,从而通过在用所述金属箔(104)覆盖的图案化的所述介电层结构(102)中形成激光过孔(114)来使得基部(106)暴露,其中,所述介电层结构(102)形成在所述基部(106)上。
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的方法,其中,所述方法包括:在水平镀覆线中形成以下中的至少一者:所述非电镀金属层(108);以及,所述多级电镀结构(110)的至少一部分。
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的方法,其中,所述方法包括:将所述金属箔(104)、所述非电镀金属层(108)和所述多级电镀结构(110)构造在一起,特别地,使用光刻干膜工艺将所述金属箔(104)、所述非电镀金属层(108)和所述多级电镀结构(110)构造在一起。
8.根据权利要求1至7中的任一项所述的方法,其中,所述方法包括:在所述多级电镀结构(110)的底边部的快速镀覆结构(124)上形成介电图案(128);以及,使所述介电图案(128)形成为延伸穿过所述多级电镀结构(110)的顶边部的图案镀覆结构(122)。
9.一种部件承载件(100),所述部件承载件(100)包括:
介电层结构(102),所述介电层结构(102)用金属箔(104)覆盖;
非电镀金属层(108),所述非电镀金属层(108)位于所述金属箔(104)上;以及
多级电镀结构(110),所述多级电镀结构(110)位于所述非电镀金属层(108)上。
10.根据权利要求9所述的部件承载件(100),
其中,用所述金属箔(104)覆盖的所述介电层结构(102)被形成在基部(106)的仅一部分上,以及
其中,所述非电镀金属层(108)被部分地形成在所述金属箔(104)上并且部分地形成在所述基部(106)上。
11.根据权利要求9或10所述的部件承载件(100),其中,所述介电层结构(102)和所述金属箔(104)被图案化,特别地,所述介电层结构(102)和所述金属箔(104)被图案化成使得:通过延伸穿过图案化的所述介电层结构(102)和图案化的所述金属箔(104)的过孔(114)而使基部(106)暴露。
12.根据权利要求11所述的部件承载件(100),其中,所述过孔(114)至少部分地被所述非电镀金属层(108)的一部分以及所述多级电镀结构(110)的一部分填充。
13.根据权利要求11或12所述的部件承载件(100),其中,与所述多级电镀结构(110)在所述介电层结构(102)上方具有的较小的厚度(d2)相比,所述多级电镀结构(110)在所述过孔(114)中具有较大的厚度(d1)。
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