[发明专利]散热板、半导体装置以及散热板的制造方法在审
申请号: | 202111458278.X | 申请日: | 2021-12-02 |
公开(公告)号: | CN114613736A | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 黑泽卓也 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/367 | 分类号: | H01L23/367;H01L23/373;H01L21/48;G06F1/20 |
代理公司: | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人: | 尹洪波 |
地址: | 日本长野县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 散热 半导体 装置 以及 制造 方法 | ||
本发明提供能够抑制大型化且提高机械强度的散热板。散热板(50)具备构造体(60)。构造体(60)包括:第1金属部(61),由第1金属构成;以及第2金属部(62),由与第1金属不同的第2金属构成,并且通过固相接合与第1金属部(61)接合。第1金属为导热率比第2金属高的金属,第2金属为机械强度比第1金属高的金属。构造体(60)包括:散热板(50)的第1表面(50A),与半导体元件(30)连接;以及散热板(50)的第2表面(50B),位于与第1表面(50A)相反的一侧。第2表面(50B)包括第1金属部(61)的上表面(61B)和第2金属部(62)的上表面(62B)。
技术领域
本发明涉及散热板、半导体装置以及散热板的制造方法。
背景技术
近年来,伴随使用于CPU(Central Processing Unit:中央处理单元)等的半导体元件的高性能化·高速度化,从该半导体元件产生的发热量逐年增加。当通过该发热量的增大而半导体元件的温度上升时,有可能产生动作速度的降低或故障等。
专利文献1记载了具有对半导体元件进行散热·冷却的构造的半导体装置。在该半导体装置中,例如在安装于配线基板的半导体元件上,借由粘接剂连接有由高导热性的金属构成的散热板。此时,应进行冷却的半导体元件发出的热,经由粘接剂传递到散热板并从散热板散热到大气中。由此,高效地对半导体元件发出的热进行散热,抑制半导体元件的温度上升。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2013-77598号公报
发明内容
发明所要解决的课题
在散热板的机械强度低的情况下,散热板也有可能随着配线基板的翘曲而变形。另一方面,当为了充分地得到散热板的机械强度而将散热板形成得厚时,半导体装置全体变得大型化。
用于解决课题的手段
一实施方式的散热板,具备构造体,该构造体包括:第1金属部,由第1金属构成;以及第2金属部,由与所述第1金属不同的第2金属构成,并且通过固相接合与第1金属部接合。所述第1金属是导热率比所述第2金属高的金属,所述第2金属是机械强度比所述第1金属高的金属。所述构造体包括:所述散热板的第1表面,该第1表面与所述半导体元件连接;以及所述散热板的第2表面,该第2表面位于与所述第1表面相反的一侧。所述第2表面包括所述第1金属部的上表面和所述第2金属部的上表面。
根据该构造,能够抑制散热板的大型化且提高散热板的机械强度。
附图说明
图1是一实施方式的半导体装置的概略剖视图。
图2是一实施方式的散热板的概略立体图。
图3A是示出图2的散热板的制造方法的概略立体图。
图3B是图3A的散热板的概略剖视图。
图4A是示出接着图3A的工序的散热板的制造方法的概略立体图。
图4B是示出图4A的制造方法的一例的概略剖视图。
图5A是示出接着图4A的工序的散热板的制造方法的概略立体图。
图5B是图5A的散热板的概略剖视图。
图6是示出接着图5A的工序的图1的半导体装置的制造方法的概略剖视图。
图7、图8、图9、图10、图11是各种变更例的半导体装置的概略剖视图。
图12和图13是各种变更例的散热板的概略立体图。
图14是示出图13的散热板的制造方法的概略立体图。
具体实施方式
以下,参照附图对各种实施方式进行说明。另外,关于附图,为方便起见,有时为了易于理解特征而放大示出成为特征的部分,并且各构成要素的尺寸比例有时在各附图中不同。另外,在剖视图中,为了易于理解各部件的截面构造,将一部分部件的阴影代替为梨皮纹来示出,并省略一部分部件的阴影。
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