[发明专利]一种无光釉料及无光釉面的制备方法有效
| 申请号： | 202111465834.6 | 申请日： | 2021-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114057398B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 温晓炜;马云龙 | 申请（专利权）人： | 亚细亚建筑材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/14 | 分类号： | C03C8/14;C03C8/04;C04B41/86 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 陈小龙 |
| 地址： | 200333 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 无光 釉料 釉面 制备 方法 | ||
1.一种无光釉面的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
(1)混合无光干粒釉和乙烯基硅烷，经焙烧处理，形成外表附着有乙烯基硅烷的无光干粒釉；
(2)混合主体釉和所述外表附着有乙烯基硅烷的无光干粒釉，混料熔化后，进行布料，经烧成，得到含无光干粒釉的微晶和纳米碳的无光釉面；
一种无光釉料；
所述无光釉料包括：无光干粒釉、纳米碳和主体釉；
所述无光干粒釉的组分包括：氧化锌、三氧化二铝、氧化钡、二氧化硅和二氧化锆；
所述主体釉包括氧化锌、碳酸钡、氧化硼、滑石粉、硼砂、氧化硅和氧化铝。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无光干粒釉的组成按质量份数包括：
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述主体釉的组成按质量分数包括：
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无光釉料中纳米碳的尺寸为1～100nm。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无光干粒釉和主体釉的质量比为0.05～0.2:1。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述纳米碳和主体釉的质量比为0.001～0.03:1。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述焙烧的温度为200～300℃。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中混料熔化后主体釉熔化包裹在纳米碳表面。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述熔化的温度为400～500℃。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述烧成的温度为600～700℃。
11.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
(1)混合无光干粒釉和乙烯基硅烷，经200～300℃焙烧处理，形成外表附着有乙烯基硅烷的无光干粒釉；
(2)混合主体釉和所述外表附着有乙烯基硅烷的无光干粒釉，混料并400～500℃熔化后，进行布料，经600～700℃烧成，得到含无光干粒釉的微晶和纳米碳的无光釉面。
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