[发明专利]一种二氧化碲用抛光液及其制备方法

说明书

本发明涉及晶体材料加工技术领域，尤其涉及一种二氧化碲用抛光液及其制备方法。所述二氧化碲用抛光液包括：金刚石微粉0.0001wt％～12wt％；柠檬酸0wt％～2wt％；余量的矿物油。本发明提供的二氧化碲用抛光液采用金刚石微粉作为磨料，矿物油为溶剂，柠檬酸为pH值调节剂，各组分在特定的配比下协同作用，最终得到的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度较低，无划伤、凹坑和麻点等缺陷。实验结果表明，本发明制备的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度明显更低，不超过0.6nm，无划伤、凹坑和麻点等缺陷。

技术领域

本发明涉及晶体材料加工技术领域，尤其涉及一种二氧化碲用抛光液及其制备方法。

背景技术

自1969年Liebertz首次用提拉法(Czochralski method)成功生长出二氧化碲(TeO₂)单晶以来，这种物理化学性能稳定、声光性能优异的晶体引起了广泛关注。近年来，随着高性能声光器件和红外器件及红外窗口材料等对高质量二氧化碲晶体的需求，使得人们对二氧化碲晶体加工的要求越来越高。由于二氧化碲微溶于水，遇强酸强碱会分解，所以在二氧化碲晶体抛光过程中如果使用不适合的抛光液，容易使其表面布满潮解的麻点，影响其在声光器件上的应用。另外，二氧化碲性质软，使用不匹配的抛光液会不可避免地出现划痕。

目前，常规市场通用的抛光液大多应用于金相抛光、高级相机的镜头抛光、金属的表面抛光以及天然宝石抛光等，对于二氧化碲的适用程度不高，并鲜有公开针对二氧化碲晶体表面抛光时所用抛光液的相关报道。急需特别为二氧化碲提供一种适用性高、抛光效率高，且抛光表面质量高的抛光液。

发明内容

有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种二氧化碲用抛光液及其制备方法，本发明提供的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度较低。

本发明提供了一种二氧化碲用抛光液，包括以下组分：

金刚石微粉 0.0001wt％～12wt％；

柠檬酸 0wt％～2wt％；

余量的矿物油。

优选的，所述金刚石微粉的粒径为0.001～5μm。

优选的，所述金刚石微粉的粒径为0.1～5μm。

优选的，所述金刚石微粉为多孔金刚石微粉。

优选的，所述柠檬酸的纯度为99％。

优选的，所述二氧化碲用抛光液中，柠檬酸的含量为0.5wt％～2wt％。

优选的，所述矿物油为煤油。

本发明还提供了一种上文所述的二氧化碲用抛光液的制备方法，包括以下步骤：

A)将金刚石微粉与矿物油混合，搅拌均匀，得到第一混合料液；

B)将柠檬酸加入搅拌的第一混合料液中，进行超声波分散，得到二氧化碲用抛光液。

优选的，步骤A)中，所述搅拌混匀的时间为1～30min。

优选的，步骤B)中，所述超声波的功率为10～180Hz，所述超声波分散的时间为2～40h。

本发明提供了一种二氧化碲用抛光液，包括以下组分：金刚石微粉0.0001wt％～12wt％；柠檬酸0wt％～2wt％；余量的矿物油。本发明提供的二氧化碲用抛光液采用金刚石微粉作为磨料，矿物油为溶剂，柠檬酸为pH值调节剂，各组分在特定的配比下协同作用，最终得到的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度较低，，无划伤、凹坑和麻点等缺陷。